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NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊...

NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻...

NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊...

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限...

NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通...

NDR-4000（A）全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕概述：全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)可以配套500L/S抽...

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，...

NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。...

NOC-4000光學(xué)鍍膜系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第...