NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-4000帶有13"鋁質(zhì)腔體，4個(gè)2"的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，500 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

• 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵

• 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

• 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

• 帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制

• *的安全聯(lián)鎖

選配項(xiàng)：

• 向上、向下或側(cè)面濺射

• RF、DC以及脈沖DC濺射

• 共濺射、反應(yīng)濺射

• 組合濺射

• RF或DC偏壓（1000V）

• 樣品臺(tái)可加熱到700°C

• 膜厚監(jiān)測(cè)儀

• 基片的RF射頻等離子清洗

• 預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下載片

應(yīng)用：

• 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

• 光學(xué)以及ITO涂覆

• 帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆

• 帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

型號(hào)：

• NSC-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng)

• NSC-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng)

• NSC-3000：PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)

• NSC-1000：半自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)

• (以下為雙系統(tǒng)型號(hào))

• NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)

• NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)

• NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)