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NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的...
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真...
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可達(dá)1...
NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真空可達(dá)1...
NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置...
NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到...
NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)機(jī)制：PLD的系統(tǒng)設(shè)備簡(jiǎn)單，相反，它的原理卻是非常復(fù)雜的物理現(xiàn)象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時(shí)，激光與物質(zhì)之間的...
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限...
NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。...
NOC-4000光學(xué)鍍膜系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第...
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