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廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地國(guó)外
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更新時(shí)間:2022-11-18 14:25:48瀏覽次數(shù):279次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 機(jī)床商務(wù)網(wǎng)NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)地 | 進(jìn)口 | 售后保修期 | 12個(gè)月 |
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銷售區(qū)域 | 全國(guó) |
NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大可達(dá)6" 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電J或中空陰J射頻等離子源來產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)S.樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰J等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用:
等離子誘導(dǎo)表面改性:就是通常所說的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)
等離子清洗:去除有機(jī)污染物
等離子聚合:對(duì)材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)
沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石),以及其它薄膜
CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長(zhǎng):在需要的位置生長(zhǎng)CNT或石墨烯。
NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn):
立式ICPECVD系統(tǒng)
不銹鋼或鋁制腔體
J限真空可達(dá)10-7Torr
ICP離子源
高達(dá)12"(300mm)直徑的樣品臺(tái)
RF射頻偏壓樣品臺(tái)
水冷樣品臺(tái)
可加熱到的800 °C樣品臺(tái)
加熱的氣體管路
加熱的液體傳送單元
抗腐蝕的渦輪分子泵組
z大可支持到8MFC
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)
完整的安全聯(lián)鎖
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