CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)特點(diǎn):
■ 采用多層隔板設(shè)計(jì),批量處理模壓光學(xué)鏡片的碳鍍膜工藝,每爐可放數(shù)千個(gè)鏡片;
■ 智能化PLC程序升溫程序,真空程序,CVD進(jìn)氣程序,操作簡(jiǎn)單方便;
■ 優(yōu)質(zhì)干式真空泵,杜絕油液污染,可選擇國(guó)產(chǎn)干式泵和進(jìn)口干式泵;
■ 智能化CVD進(jìn)氣控制系統(tǒng),適應(yīng)于氮?dú)狻⒁胰?甲烷、氬氣、空氣的通入和混合;
■ *的密封系統(tǒng),泄漏率低,長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性高;
CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)詳細(xì)資料:
主要用途
■ 適用于模壓非球面光學(xué)玻璃鏡片的碳鍍膜工藝;
■ 適應(yīng)于半導(dǎo)體行業(yè)晶圓表面薄膜生長(zhǎng);
■ 可用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝;
產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào): DH-30-700(大華)
使用溫度: 650℃;
使用氣氛: 氮?dú)狻鍤狻⒖諝狻⒍趸?/span>、乙炔、甲烷、合氣體;
長(zhǎng)期使用:400-700℃;
波 動(dòng) 度: ±1℃;
顯示精度: 0.1℃;
均 勻 度: 容積30L;
進(jìn)氣流量:三路MFC質(zhì)量流量計(jì)控制,一路浮子流量計(jì)控制;
升降系統(tǒng): 兩套伺服升降系統(tǒng)平臺(tái);
控制系統(tǒng):智能程序化PLC控制系統(tǒng);
真空泵真空度: 極限真空1Pa;
腔內(nèi)真空度:≤10Pa;
降溫要求:外置冷卻風(fēng)機(jī),降溫階段強(qiáng)制降溫;
整機(jī)功率: 18KW;
電 源 : 380V, 50Hz;
水冷裝置:優(yōu)質(zhì)水冷機(jī),PLC聯(lián)機(jī)控制
保護(hù)裝置: 過(guò)載、過(guò)流、過(guò)壓保護(hù),接地,熱電偶異常報(bào)警,第二回路超溫報(bào)警保護(hù)裝置;冷卻水溫保護(hù),壓力過(guò)載保護(hù);
技術(shù)服務(wù): 提供設(shè)備使用過(guò)程中的技術(shù)咨詢和支持,接到客戶故障通知3個(gè)工作時(shí)內(nèi)立即響應(yīng)。