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更新時(shí)間:2022-12-06 11:11:41瀏覽次數(shù):330次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 機(jī)床商務(wù)網(wǎng)NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備
產(chǎn)地 | 進(jìn)口 | 售后保修期 | 12個(gè)月 |
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銷售區(qū)域 | 全國(guó) |
NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述:原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù),具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性,可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備特點(diǎn):NLD-3500(A)是一款全自動(dòng)獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng),帶Labview軟件,具備四級(jí)密碼控制的用戶shou權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì),并提供了強(qiáng)大的靈活性,可以用于沉積多種薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3500(A)系統(tǒng)提供12"的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體,帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋,非常方便腔體的訪問(wèn)和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸,用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物,同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。
NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備選配:NLD-3500(A)系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含,ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD),臭氧發(fā)生器,等等。
NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備應(yīng)用:
Oxides氧化物: Al2O3, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.
Nano laminates納米復(fù)合材料
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