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    FSM 薄膜應(yīng)力量測設(shè)備

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    更新時(shí)間:2022-06-04 13:46:52瀏覽次數(shù):240

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    產(chǎn)品簡介

    設(shè)備介紹內(nèi)容:應(yīng)力量測之目的當(dāng)薄膜沉積於不同熱膨脹係數(shù)(coefficientsofthermalexpansion,CTE)材料時(shí),就會(huì)生成薄膜應(yīng)力(Filmstress),此應(yīng)力將影響薄膜附著於材料的狀況

    詳細(xì)介紹

    設(shè)備介紹內(nèi)容:
    應(yīng)力量測之目的
    當(dāng)薄膜沉積於不同熱膨脹係數(shù)(coefficients of thermal expansion, CTE)材料時(shí),就會(huì)生成薄膜應(yīng)力(Film stress),此應(yīng)力將影響薄膜附著於材料的狀況。具備過高殘留應(yīng)力(Residual Stress)的材料在經(jīng)過加熱/冷卻製程時(shí),可能會(huì)因兩貼合材料之熱膨脹係數(shù)不同,導(dǎo)致接觸面產(chǎn)生缺陷(defects),諸如:錯(cuò)位(dislocations)、剝離(delamination)、孔洞(voids),甚至是材料破裂(cracking)等問題發(fā)生。
    為避免材料到製程後端才發(fā)現(xiàn)問題,除製程上須對薄膜沉積的均勻性、厚度進(jìn)行控管外,用戶可透過FSM薄膜應(yīng)力量測設(shè)備,測量薄膜沉積後的殘留應(yīng)力,避免後續(xù)應(yīng)力釋放時(shí)導(dǎo)致的材料破壞,藉此提升生產(chǎn)良率、降低生產(chǎn)成本。

    FSM應(yīng)力量測設(shè)備特點(diǎn)

    • 提供精確的量測數(shù)據(jù),徑向掃描可量高達(dá)12,000點(diǎn)之?dāng)?shù)據(jù)
    • 雙波長雷射切換技術(shù),依材料表面特性自動(dòng)切換合適之雷射波長,以獲取量測訊號
    • 量測範(fàn)圍廣,於徑向50~450mm範(fàn)圍內(nèi)之產(chǎn)品,皆可使用此系列設(shè)備進(jìn)行應(yīng)力量測
    • 設(shè)備穩(wěn)定性高,具備優(yōu)異的量測重複性與再現(xiàn)性

    FSM應(yīng)力量測設(shè)備功能 (128/500/900)
    FSM 128系列提供室溫(Room Temperature)的應(yīng)力量測解決方案;而500、900系列,可於各自的工作溫度範(fàn)圍內(nèi)進(jìn)行升降溫的應(yīng)力量測,模擬實(shí)際製程升降溫、SMT回焊、退火的溫度曲線,確認(rèn)產(chǎn)品製程的可靠度。
    除產(chǎn)品基本的應(yīng)力量測、升降溫功能外,機(jī)臺提供多元化的選配功能,用戶可依需求自行選配機(jī)臺附加功能,詳見下表。

    薄膜應(yīng)力量測

     

    128 Series

    500 TC

    900 Series

    工作溫度

    室溫

    ~ 500℃

    ~ 900℃

    升溫速率

    X

    35℃/min
    建議以5℃/min 量測

    薄膜反射率

    V

    應(yīng)力滯留曲線

    X

    V

    V

    熱膨脹係數(shù)CTE

    X

    V

    V

    熱脫附光譜(TDS)*

    X

    X

    V

    薄膜電阻率

    X

    X

    V

    薄膜收縮狀況

    X

    X

    V

     

    *熱脫附光譜(TDS,Thermal Desorption Spectroscopy):根據(jù)不同溫度下逸散的氣體分子量,判斷氣體的種類。

    FSM應(yīng)力量測設(shè)備應(yīng)用
    廣泛適用於半導(dǎo)體、電子、光學(xué)面板、玻璃等產(chǎn)業(yè),可用於下列薄膜製程站點(diǎn)使用應(yīng)力量測,進(jìn)行可靠性的監(jiān)控,其中,薄膜應(yīng)力和晶圓彎曲度的測量是*的一部分:

    1. 物理氣相沉積 (PVD, Physical Vapor Deposition):蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)
    2. 化學(xué)氣相沉積 (CVD, Chemical Vapor Deposition)
    3. 液體成膜法:使用酸蝕、電鍍等方法。應(yīng)用:玻璃上的二氧化矽(抗反射膜)
    4. 加熱氧化法

    詳細(xì)規(guī)格與應(yīng)用,或來信洽詢。


     

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