產品名稱

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套

       接頭）及減壓閥

4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

5、通風裝置：需要

主要特點

1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調換）。

2、可制備多種薄膜，應用廣泛。

3、體積小，操作簡便。

4、整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調整。

5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數(shù)

1、電源電壓：220V  50Hz

2、總功率：＜2.5KW

3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設備使用可達到 E-5mbar）

4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）

5、靶槍數(shù)量：3個

6、靶槍冷卻方式：水冷

7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）

8、直流濺射功率：500W（可選）

9、射頻濺射功率：300W/500W（可選）

10、載樣臺：Ø140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質量的鍍膜。

11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調

12、保護氣體：Ar、N₂等惰性氣體

13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM

產品規(guī)格

主機尺寸：500mm×560mm×660mm，整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg

標準配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

2套

2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1套

4

分子泵（德國進口）

1臺

5

冷水機

1臺

6

冷卻水管（Ø6mm）

4根

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材

掩膜版

振動樣品臺