產(chǎn)品型號

GSL-PECVD-300化學氣相沉積

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：設備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實驗所需氣體氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、場地：設備尺寸2200×2000mm×1500mm，承重1000kg以上

5、通風裝置：需要

主要特點

1、所需成膜溫度低

2、沉積速率快，應用廣泛

3、體積小，操作簡便

4、采用射頻為增強源易于控制

5、清理安裝便捷。

6、一體化觸摸屏控制

技術參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構，手動前開門；
2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造（304），氬弧焊接，表面采用噴玻璃丸+電化學拋光鈍化處理配有可視觀察窗口，并帶擋板，真空有效尺寸為Φ300mm×300mm；
3、極限真空度：≤6.67x10-4Pa (經(jīng)烘烤除氣后，采用600L/S分子泵抽氣，前級采用4L/S)；
系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到5.0x10-3 Pa，40分鐘可達到； 停泵關機12小時后真空度：≤5 Pa；
4、采用樣品在下，噴淋頭在上的電容式耦合方式進氣；
5、樣品加熱高加熱溫度：500℃，溫控精度：±1°C，采用控溫表進行控溫；
6、噴淋頭尺寸：Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)（可根據(jù)工藝調(diào)整），并帶有標尺指數(shù)顯示；
7、 沉積工作真空：0.133-133Pa（可根據(jù)工藝調(diào)整）；
8、射頻電源：頻率 13.56MHz，大功率500W，全自動匹配；
9、.氣體種類（用戶提供），使用質(zhì)量流量控制器控制進氣。

10、系統(tǒng)設有尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

產(chǎn)品規(guī)格

整機尺寸：1200x1500x1500mm；

標準配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空機組

1套

3

真空測量

1套