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更新時間:2023-11-13 11:27:48瀏覽次數:310次
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●該設備為電阻、電子束或電阻電子束復合鍍膜系統(tǒng),同時兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜,過流部件均采用SUS304制造,真空系統(tǒng)后置,標準配置分子泵系統(tǒng),標配工業(yè)級人機界面和西門子PLC系統(tǒng),手動和自動模式自由切換,能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產和科研院所客戶科研實驗的需求。該系列設備不提供全手動操作控制系統(tǒng)。
形式:箱式一體機,立式前開門,蒸發(fā)室和抽氣室為整體焊接式,一體機系統(tǒng)。
●真空系統(tǒng):極限真空5X10-4Pa,主泵為復合分子泵。
●真空測量:配三路數字復合真空計,均采用安全防爆金屬測量規(guī)。
●工件架系統(tǒng):客戶需求定制,配置可擴展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝,轉速3~30rpm變頻可調,工件盤為球形和行星工件盤可選,行星工件盤成本較高。
●烘烤系統(tǒng):不銹鋼鎧裝加熱器匹配數字功率控制器和PID控制模塊,烘烤溫度300℃,溫控精度1℃,過沖不超過2℃。
●電子束蒸發(fā)源:E型電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)(E型)1套,主體有屏蔽罩,單槍、單電源、單掃描,配置獨立高壓控制柜。
●坩堝:坩堝1套,電動轉位和點動轉位,配置無氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。
●電阻蒸發(fā)源:2套電阻蒸發(fā)源。(選配)
●膜厚測試系統(tǒng):配瑞士inficon石英膜厚在線測量系統(tǒng), RS-232 和 USB兼容,匹配水冷膜厚探頭。
●離子源輔助沉積系統(tǒng):一套(選配離子源或高壓離子轟擊系統(tǒng))
●控制系統(tǒng):成熟可靠的真空鍍膜控制系統(tǒng),工業(yè)級10英寸觸摸屏和西門子PLC,能夠實現(xiàn)抽真空、工轉烘烤、自動充氣、自動鍍膜、自動冷卻放氣等鍍膜生產流程;支持半自動和手動等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動報警和保護系統(tǒng),采用聲光報警。
●說明:根據用戶要求,公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),共享知識產權,公司致力于工藝與設備匹配。
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