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    DISCO Corporation>>拋光機(jī)>>DGP8761拋光機(jī)

    拋光機(jī)

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    具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 型號 DGP8761
    • 品牌
    • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
    • 所在地

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    更新時間:2021-10-07 09:11:48瀏覽次數(shù):1213

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    產(chǎn)品簡介

    追求高效率的300mm研削拋光機(jī)Φ300mm3axes,4chucktablesDBGSDBGWaferThinningStressReleaf提高加工穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率DGP8761是銷售業(yè)績突出的DGP8760的改良機(jī)型

    詳細(xì)介紹

    追求高效率的Φ300 mm研削拋光機(jī)

    • Φ300 mm
    • 3 axes, 4 chuck tables
    • DBG
    • SDBG
    • Wafer Thinning
    • Stress Releaf

    提高加工穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率

    DGP8761是銷售業(yè)績突出的DGP8760的改良機(jī)型。通過背面研削到去除應(yīng)力的一體化,可以穩(wěn)定地實(shí)施厚度在25 μm以下的薄型化加工。搭載了新開發(fā)的主軸,適用于高速研削加工,有助于縮短薄型晶圓的加工時間(于DGP8760相比較)。另外,優(yōu)化了搬運(yùn)部機(jī)構(gòu)的布局,縮短了加工以外的作業(yè)時間。

    第三主軸的多樣化應(yīng)用

    作為薄晶圓加工的第3主軸可以有以下選擇。

    應(yīng)力釋放(Stress Relief)

    • 有利于環(huán)保,不使用藥液/水的「干式拋光加工」
    • CMP(特殊選項(xiàng))

    超精密研削加工(特殊選項(xiàng))

    • Poligrind
    • UltraPoligrind

    利用第三主軸實(shí)現(xiàn)外質(zhì)吸雜的應(yīng)用

    ※外質(zhì)吸雜:是在Si晶圓內(nèi)由研削而形成微細(xì)的變質(zhì)層(吸雜區(qū)域), 在該吸雜區(qū)域內(nèi)可以捕獲/固定重金屬等雜質(zhì)的技術(shù)

    Gettering DP

    采用干式拋光,兼顧高抗彎強(qiáng)度和維持外質(zhì)吸雜效果的迪思科的解決方案。

    研磨輪「UltraPoligrind」

    采用微細(xì)磨粒「UltraPoligrind」,無需使用化學(xué)藥物即可進(jìn)行薄型晶圓加工。既可維持由于研削產(chǎn)生的外質(zhì)吸雜效果,又可夠獲得以往研磨輪所無法得到的高抗彎強(qiáng)度。

    系統(tǒng)擴(kuò)展功能

    與多功能晶圓貼膜機(jī)「DFM2800」聯(lián)機(jī)使用,可一次性完成薄型晶圓DAF薄膜(Die Attach Film)貼膜作業(yè)。并且可對應(yīng)DBG(Dicing Before Grinding)工藝(特殊選項(xiàng))。

    維持與現(xiàn)有8000系列機(jī)型間的兼容性及零部件互換性

    DGP8761的研磨輪、磨輪修整板等與現(xiàn)有8000系列機(jī)型具有互換性。另外,該機(jī)型的操作方法及GUI(Graphical User Interface)的畫面構(gòu)成方面也與現(xiàn)有機(jī)型具有大量共通性。

    加工物流程系統(tǒng)

    1. 用機(jī)械手臂將晶圓從晶圓盒中取出,放到中心定位臺上進(jìn)行中心定位、
    2. 用T1取物手臂將晶圓搬運(yùn)到工作臺上→
    3. 進(jìn)行粗研磨加工→
    4. 進(jìn)行細(xì)研磨加工→
    5. 進(jìn)行干式拋光加工(去除殘余應(yīng)力)→
    6. 用T2取物手臂將晶圓從工作臺移到離心清洗臺上→
    7. 進(jìn)行清洗→干燥→
    8. 移到貼膜機(jī)上(DFM2800)。 或者由機(jī)械手臂將工作物送回到晶圓盒。
    Work Flow System

    Specifications

    Specification Unit
    Wafer Diameter mm Φ300(Φ200 / Φ300)
    Grinding Method (Z1/Z2 axis) - In-feed grinding with wafer rotation
    Grinding Method (Z3 axis) - Anomalous in-feed grinding with wafer rotation
    Grinding Wheels - Φ300 mm Diamond wheel (grinding-axis)
    Φ450 mm Dry polishing pad (DP-axis)
    Φ450 mm CMP pad (CMP-axis)
    Machine dimensions (W×D×H) mm 1,690 × 3,315 × 1,800 (open cassette)
    1,690 × 3,452 × 1,800 (FOUP)
    Machine weight kg Approx. 6,700(DP, Poligrind)
    Approx. 6,900 (CMP)

    ※為了改善,機(jī)器的外觀,特征,規(guī)格等本公司可能在未預(yù)先通知用戶的情況下實(shí)施變更。
    ※使用時,請先確認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格書。

    Product Lineup

    Machine type
    Spindle
    C/T
    Machine dimentions(W × D × H)
    Machine weight(kg)
    DAG810DFG8340DFG8540DFG8560DFG8640DFG8830DFP8140DFP8141DFP8160
    半自動全自動全自動全自動全自動全自動全自動全自動全自動
    112224111
    123335121
    600 × 1,700 × 1,780800 × 2,450 × 1,8001,200 × 2,670 × 1,8001,400 × 3,190 × 1,8001,000 × 2,800 × 1,8001,400 × 2,500 × 2,0001,200 × 2,670 × 1,800900 × 2,584 × 2,0001,400 × 3,322 × 1,800
    1,3002,5003,1004,0003,5006,0001,9003,1002,400

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