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詳細(xì)介紹
基本參數(shù)
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz |
| 容量 | 180L |
| 功率 | 0-1000W(可調(diào)) |
| 腔體尺寸 | (長寬高mm)500*600*600 |
| 處理層數(shù) | 17層 |
| 外形尺寸 | (長寬高mm)1200*1200*1730 |
| 真空泵 | 油泵/干泵+羅茨組合 |
| 真空度 | 5-100pa(可調(diào)) |
| 腔體材質(zhì) | 316不銹鋼/進(jìn)口鋁合金(選配) |
| 氣體流量控制 | 0-500SCCM(MFC±2%) |
| 氣體通道 | 兩路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
| 等離子體發(fā)生器 | 40KHz/13.56MHz |
| 腔體溫度 | ＜30℃ |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏 |
| 系統(tǒng)控制軟件 | 自主研發(fā)V2.0 |
| 電極陶瓷 | 進(jìn)口高頻陶瓷 |
設(shè)備簡介
離線真空等離子清洗機是具有多用途的機械系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于活化，退鍍，改性，蝕刻，提升附著力和清洗等等功能。該設(shè)備也是，，有效性好的理想設(shè)備
設(shè)備功能
蝕刻：對于光致抗蝕劑聚酰亞胺的殘留和以硅化物為基本成分的涂層等材料的清除很有用
粘附提升：往基質(zhì)上添加活化能力強的化學(xué)基團(tuán)以提高其粘合劑的黏著度。
清洗：清除材料上的光學(xué)物質(zhì)的污染以及清除有機物殘留，氧化和金屬鹽等對材料的污染。
活化：能使處理基材表面生成所需化學(xué)極鍵；
退鍍：使被處理基材除去金屬等材料，制作各種產(chǎn)品。
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