激光刻膜機(jī)適用于非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、ZAO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Ai）的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
激光刻膜機(jī)介紹
激光波長(zhǎng)       ： 1064nm或532nm
    刻膜線寬       ： 30um ～ 100um
    刻膜速度       ： 30m／min ～ 60m／min
    刻膜精度       ： 三線外沿總寬度 < 400um
    玻璃幅面       ： 1245mm x 635mm
    占地面積(長(zhǎng)x寬)： 3000mm x 1600mm
簡(jiǎn)介
半導(dǎo)體端面泵浦激光器，雙光路等能量分光
  高剛性主機(jī)采用大理石床身、鑄鐵龍門(mén)結(jié)構(gòu)
  精密滾珠絲杠伺服驅(qū)動(dòng)．龍門(mén)一維移動(dòng)
  電池板靜止．雙激光頭雙工位同步加工無(wú)需拼接
  CCD刻線質(zhì)量檢測(cè)和工件輔助定位
  同步吸塵裝置