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更新時間:2021-12-01 13:33:45瀏覽次數(shù):1159次
聯(lián)系我時,請告知來自 機床商務(wù)網(wǎng)真空鍍膜設(shè)備技術(shù)門檻比較高,目前在國內(nèi)是技術(shù)空白,大族真空鍍膜設(shè)備技術(shù)團隊擁有豐富的設(shè)備制造和工藝開發(fā)經(jīng)驗,大族真空鍍膜設(shè)備技術(shù)團隊在手機中框以及其他零部件表面涂層領(lǐng)域,具有非常好的聲譽。大族真空鍍膜設(shè)備技術(shù)團隊在國外聯(lián)合其他公司、科研院所,做到產(chǎn)學(xué)研一體化,在各個應(yīng)用領(lǐng)域取得了不錯的效果,特別是手機、汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、滾齒刀、沖壓模具、立銑刀、類金剛石、塑膠磨具等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
本公司真空鍍膜設(shè)備*實現(xiàn)全自動控制系統(tǒng),可實現(xiàn)真正意義上的“一鍵式"操作,包括:抽真空,智能加熱、氬離子轟擊清洗、電弧轟擊清洗、離子源轟擊清洗、鍍膜、冷卻、冷卻水自動切換、氮氣冷卻等功能。只有真正意義的全自動才能保證鍍膜的穩(wěn)定性和重復(fù)性。 本公司真空鍍膜設(shè)備對全部設(shè)定和實際鍍膜過程參數(shù)實時自動記錄IPC硬盤,形成數(shù)據(jù)庫,保存過去一年來的所有數(shù)據(jù)資料。操作人員可以在時序曲線上方便查找全部鍍膜過程狀態(tài)細節(jié)。為工藝開發(fā)工程工作,以及鍍膜生產(chǎn)品質(zhì)管理工作提供關(guān)鍵性的支持和幫助。
大族真空鍍膜設(shè)備技術(shù)團隊研發(fā)的鍍膜設(shè)備配置我公司專有的陽極層矩形氣體離子源,采用氣體離子源產(chǎn)生的氣體離子代替陰極電弧源產(chǎn)生的金屬離子對被鍍工件表面進行鍍膜前的離子轟擊清洗(濺射)。從而*避免了金屬微液滴的問題,轟擊濺射更柔、更*、膜基結(jié)合力更高。該設(shè)備配置有專為鍍膜開發(fā)的4G陰極電弧源。
4G陰極電弧源采用永磁場和電磁場共同驅(qū)動電弧移動:弧斑更細碎、移動更快、燒蝕更均勻。顯著抑制微液滴的產(chǎn)生,顯著提高金屬等離子體的輸出,改善所鍍膜層的致密性和光亮度。該電弧技術(shù)是國際的技術(shù),在多個客戶處,不論是工具涂層的應(yīng)用還是模具涂層的應(yīng)用,都可以與國外涂層設(shè)備有效競爭。
大族的4G電弧技術(shù)在導(dǎo)電鍍鈦領(lǐng)域取得了非常好的效果。做出的鍍層質(zhì)量可以和國外涂層公司的產(chǎn)品直接競爭,也奠定了大族涂層設(shè)備在 國內(nèi)的優(yōu)勢。
本技術(shù)采用特殊的電磁場設(shè)計驅(qū)使電弧弧斑跑動更快,弧斑在同一位置停 留的時間更短,弧斑更細碎,單體能量更小,有效地降低微液滴的尺寸和數(shù)量;
放電的弧斑數(shù)量更多,產(chǎn)生的等離子體更強,在電磁場的驅(qū)動下,大大增強了真空室內(nèi)的等離子體密度,改善離子反應(yīng)鍍鈦的環(huán)境;
微液滴減少了,極大的提高了電弧涂層的表面光亮度,鍍層色澤更加飽滿。
真空室:
計算機系統(tǒng):
加熱系統(tǒng):
轉(zhuǎn)架系統(tǒng):
GISETCH:等離子刻蝕清洗技術(shù)
氣體離子源(GIS)產(chǎn)生的氣體等離子體對被鍍工件表面進行鍍膜前的氣體離子轟擊清洗(濺射和刻蝕),*代替?zhèn)鹘y(tǒng)的陰極電弧金屬離子轟擊清洗,避免了金屬微液滴 的問題。氣體離子轟擊濺射更溫柔、更*、 膜基結(jié)合力更高。
4G-CAE:第四代陰極電弧技術(shù)
配置了2到4組(8-16套)專為金屬鍍膜開發(fā)的新一代 陰極電弧源系統(tǒng),實現(xiàn)永磁場和電磁場協(xié)同驅(qū)動弧斑移動:弧斑更細碎、移動更快、燒蝕更均勻, 顯著抑制微液滴的產(chǎn)生,提高金屬等離子體的輸出, 改善所鍍膜層的反應(yīng)性、致密性和光亮度。
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