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    雙面拋光機(jī)廠家與您分享雙面拋光的工藝因素對(duì)拋光過(guò)程的影響2015/08/14
    雙面拋光機(jī)廠家與您分享雙面拋光的工藝因素對(duì)拋光過(guò)程的影響超精密雙面拋光加工技術(shù)需要的設(shè)備包括雙面拋光機(jī)、拋光終點(diǎn)檢測(cè)和工藝控制設(shè)備、后清洗設(shè)備、廢物處理及檢測(cè)設(shè)備等;采用的消耗品包括拋光墊及拋光液。完整的超精密雙面拋光工藝主要包含拋光、后清洗和測(cè)量測(cè)試等幾個(gè)部分。因此,超精密雙面拋光系統(tǒng)包括了很多變量:晶片自身變量、拋光液變量、拋光墊變量和拋光機(jī)過(guò)程變量等,超精密雙面拋光工藝的三大關(guān)鍵參數(shù)是拋光機(jī)、拋光墊和拋光液,其相互匹配性及各自性能影響了能獲得的工件表面質(zhì)量。如圖所示為其具體內(nèi)容。為了能更好
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