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用VTC-200對銅箔表面進(jìn)行涂膜
實(shí)驗(yàn)材料:厚度0.5㎜的銅箔、透明無機(jī)溶膠,實(shí)驗(yàn)樣品如圖1所示
銅箔 無機(jī)溶膠
圖1 實(shí)驗(yàn)所用樣品圖
材料特性:銅箔質(zhì)軟,容易褶皺;透明無機(jī)溶膠具有較大的粘性,不易甩開。
實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?/strong>在銅箔表面涂覆一層厚度均勻的薄膜
實(shí)驗(yàn)設(shè)備:VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備如圖2所示:
VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)
圖2 實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖
實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備特點(diǎn):
VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點(diǎn),可利用高速旋轉(zhuǎn)的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。該機(jī)使用真空吸盤將樣品固定在載樣盤上,具有兩段程序控制速度。段程序?qū)⒃O(shè)備轉(zhuǎn)速設(shè)置在較低的范圍內(nèi),在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時(shí)間對樣品進(jìn)行注膠;第二段程序注膠結(jié)束后涂膜機(jī)在最短時(shí)間內(nèi)提升轉(zhuǎn)數(shù)至第二段所設(shè)置的轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行勻膠,在勻膠之前要對勻膠時(shí)間進(jìn)行設(shè)置,當(dāng)勻膠結(jié)束后機(jī)器自動(dòng)停止運(yùn)轉(zhuǎn),涂膜的整個(gè)過程結(jié)束。可利用高速旋轉(zhuǎn)的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。
設(shè)備參數(shù):
時(shí)間設(shè)置范圍:1s-600s;轉(zhuǎn)速:500rpm-6000rpm;
可設(shè)置兩步涂膜程序,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性為±1%,使涂膜更加均勻。
SPD1轉(zhuǎn)速:500-6000 rpm有效;T1時(shí)間:1--600s有效。
SPD2轉(zhuǎn)速:500-6000 rpm有效;T2時(shí)間:1--600s有效。
載樣盤直徑:φ150mm,適用于尺寸6英寸、8英寸樣片及其它尺寸樣片的涂膜。
實(shí)驗(yàn)過程:
首先將5㎜厚的銅箔固定在1㎜厚的方形玻璃片上,然后將固定有銅箔的玻璃片放到吸盤中間的位置,放置玻璃片的時(shí)候盡量找好正中心,以免高速旋轉(zhuǎn)的過程中造成飛片。實(shí)驗(yàn)過程中為了設(shè)備清理方便可在機(jī)器腔體內(nèi)貼附一層塑料薄膜,試驗(yàn)后可直接撕下。放置帶有銅箔的玻璃片的設(shè)備如圖3所示,
圖3 放置基片的設(shè)備圖
放置好試樣后對設(shè)備進(jìn)行程序設(shè)置,一段:SPD1 500rpm T1 15s;二段:SPD1 1500rpm T2 45s。設(shè)置好程序后將膠液擠出一定量到基片表面,然后蓋好上蓋,開啟設(shè)備對基片進(jìn)行涂膜。在段速度時(shí),涂膜機(jī)在較低轉(zhuǎn)速下進(jìn)行勻膠,使膠液在基片表面鋪展開;在第二段速度時(shí)在較高旋轉(zhuǎn)速度下使基片表面的膠體迅速甩開,將多余的膠液甩倒基片外面,然后在基片表面形成具有一定厚度的薄膜。程序運(yùn)行結(jié)束后,將樣品移下并自然干燥,干燥后的試樣如圖4所示;
圖4 干燥后的試樣圖
用肉眼可見,薄膜在基片表面均勻分布,若要了解試樣的確切厚度,可使用TFMS-IV型高精度反射膜厚儀對試樣表面厚度進(jìn)行測量。
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