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    四探針電阻率測試儀的使用標(biāo)準及應(yīng)用

    2021年01月18日 09:16點擊:1250來源:北京北廣精儀儀器設(shè)備有限公司>>進入該公司展臺

    GB/T 11073 硅片徑向電阻率變化的測量方法提要
    探針與試樣壓力分為小于0.3 N及0.3 N~0.8N兩種。
    下列文件中的條款通過本標(biāo)準的引用商成為本標(biāo)準的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準,然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的新版本。凡是不注日期的引用文件,其新版本適用于本標(biāo)準。 GB/T 1552 硅、儲單晶電阻率測定 直排四探針法
    樣品臺和操針架樣品臺和探針架應(yīng)符合 GB/T152 中的規(guī)定。 樣品臺上應(yīng)具有旋轉(zhuǎn) 360"的裝置。其誤差不大于士5",測量裝置測量裝置的典型電路叉圖1,
     
    范圍本標(biāo)準規(guī)定了用直排四探針測量硅外延層、擴散層和離子注入層薄層電阻的方法。
    本標(biāo)準適用于測量直徑大于15.9mm的由外延、擴散、離子注人到硅片表面上或表面下形成的薄層的平均薄層電阻。硅片基體導(dǎo)電類型與被測薄層相反。適用于測量厚度不小于0.2 μm的薄層,方塊電阻的測量范圍為10A~5000n.該方法也可適用于更高或更低照值方塊電阻的測量,但其測量精確度尚未評估。
    使用直排四探針測量裝置、使直流電流通過試樣上兩外探件,測量兩內(nèi)操針之間的電位差,引人與試樣幾何形軟有關(guān)的修正因子,計算出薄層電阻。
    R_——某位置第i次測量的平均電阻,i-1,2,3,4,5. 9.6 計算總平均薄層電阻,見式(6)。
    F。———探針修正因子; F,——限定直徑試樣修正因子。
    電位差計和電流計或數(shù)字電壓表,量程為1mV~100mV,分辨率為0.1%,直流輸入阻抗不小
    250 μm 的半球形或半徑為 50 μm~125 μm 的平的圓截面。
    探針(帶有彈簧及外引線)之間或探針系統(tǒng)其他部分之間的絕緣電照至少為10°Ω. 探針排列和間距,四探針應(yīng)以等距離直線排列,探針閥距及針突狀況應(yīng)符合 GB/T 552中的規(guī)定。
    R=1(R+R,)…………………………(3) R2=與(R;+R,)
    計算試樣平均直徑D與平均操針間距S之比,由表3中查出修正因子F,也可以見GB/T11073中規(guī)定的幾何修正因子。 9.4 計算幾何修正因子 F,見式(4)。
     
    對于薄層厚度小于3μm的試樣,選用針尖半徑為 100 μm~250 μm的半球形探針或針尖率徑為50 μm~125 pm平頭探針,針尖與試樣間壓力為0.3 N~0.8Ni對于薄層厚度不小于3μ的試樣,選用針尖半徑為 35 μm~100 pm 半球形操針,針尖與試樣間壓力不大于0.3 N.
    Rr=V;R,/V=V/I,……… R,=V,R,/V_=V,/I,-
    雙刀雙撐電位選擇開關(guān)。
    對仲裁測量,報告還應(yīng)包括對探針狀況、電測裝置的精度、所測原始數(shù)據(jù)及處理結(jié)果。
    本方法對于薄層厚度不小于3μm的試樣,多實驗室測量精密度為士12%(R2S);對于薄層厚度小于 3 μm 的試樣,多實驗室測量精密度為±10%(R2S)。 
    當(dāng)直接測量電流時,采用式(1)、式(2)右邊的形式。對于仲載測量,R,與R,之差的值必須小于較大值的 5%。
    對于每一測量位置,計算正、反向電流時試樣的電阻值,見式(1)、式(2)。
    測量條件和步驟整個測試過程應(yīng)在無光照,無離頻和無振動下進行。
    R(T)-號>R.(n
    試驗報告應(yīng)包括以下內(nèi)容∶試樣編號; 試樣種類; 試樣薄層厚度;測試電流; 測試溫度;試樣薄層電阻; 本標(biāo)準編號; h) 測量、測量者和測量日期。
    電流換向開關(guān)
    V,———通過正向電流時標(biāo)準電阻兩端的電位差,單位為毫伏(mV); V。——通過反向電流時標(biāo)準電阻兩端的電位差,單位為毫伏(mV); R,——標(biāo)準電阻阻值,單位為歐姆()。
    標(biāo)準電阻;按表2的薄層電阻范圍選取所需的標(biāo)準電,精度0.05 級
    于10*0.電子測量裝置適用性應(yīng)符合GB/T 1552 的規(guī)定。 歐嬌表,能指示阻值高達 10°日 的漏電阻. 溫度針o℃~40 ℃,小刻度為0.1 ℃。
    光照、高頻、需動、強電磁場及溫醒度等測試環(huán)境會影響測試結(jié)果,
    甲醇,99.5%。 干燥氮氣。測量儀器探針系統(tǒng)操針為具有45"~150°角的圓罐形破化鴨振針,針實半徑分別為35 μm~100μm.100 μm~
    ………………( 5)
    電壓表輸入阻抗會引入測試誤差。 硅片幾何形狀,表面粘污等會影響測試結(jié)果。
    R(TD=R_×F式中∶
    計算每一測量位置的平均電阻 R.,見式(3)。
    試劑優(yōu)級純,純水,25 ℃時電阻率大于 2 MN•cm。 
    s=號(二【R,(TD-瓦(7D羽yt ..
    計算每一測量位置在所測溫度時的薄層電阻(可根據(jù)薄層電阻計算出對應(yīng)的電阻率并修正到 23 ℃,具體見表 4),見式(5)。

    用干凈涂題顆子或吸筆將試樣置于樣品臺上,試樣放置的時間應(yīng)足夠長,達到熱平衡時,試樣溫度為23 ℃±1℃.


    接通電流,令其任一方向為正向,調(diào)節(jié)電流大小見表1所給出的某一合適值,測量并記錄所得數(shù)據(jù)。所有測試數(shù)據(jù)至少應(yīng)取三位有效數(shù)字。 改變電流方向,測量、記錄數(shù)據(jù)。關(guān)斷電流,搶起探針裝置,對仲裁測量,探針間距為1.59 mm,將樣品分別旋轉(zhuǎn)30°±5',重復(fù)8.4~~8.7的測量步驟,測5組數(shù)據(jù),測量結(jié)果計算
    V,——通過正向電流時試樣兩端的電位差,單位為毫伏(mV, V,—通過反向電流時試樣兩端的電位差,單位為毫伏(mV);
    將操針下降到試樣表面測試,使四探行針陣列的中心落在試樣中心1.00mm范圍內(nèi)。 
    6.3.1 恒意源,按表1的推薦值提供試樣所需的電流,精度為±0.5%.
    R-——通過正向電流時試樣電阻,單位為歐姆(n); R,——通過反向電流時試樣電阻,單位為救姆(O); 1,——通過試樣的正肉電流,單位為毫安(mA); I,——通過試樣的反向電流,單位為毫安(mA);
    勢止白F=F,×F…………………………( 4) F= F;×F。式中;
    化學(xué)實驗室器具,如;塑料燒杯,量杯和適用于酸和溶劑的涂塑懾子等。試樣制備如試樣表面潔凈,符合測試條件可直接測試,否則,按下列步驟清洗試樣后測試∶試樣在甲醇中源洗1min。如必要,在甲醇中多次源洗,直到被干燥的試樣無污跡為止。將試樣干燥。 放入中清洗1 min。 用純水洗凈。 用甲醇源洗干凈, 用氮氣吹干。

    干擾因素探什材料和形狀及其和硅片表面接觸是否滿足點電流源注人條件會影響測試精度。 
    ……………………(6 9.7 計算標(biāo)準偏差,見式(7),


    關(guān)鍵詞:電壓表
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