玻璃可以用磁控裝飾鍍，陰極多弧鍍膜，連續(xù)磁控濺射鍍，蒸發(fā)鍍以下4種真空鍍膜設(shè)備，如何選擇那一款，具體的要根據(jù)貴司產(chǎn)品底材，鍍膜要求來(lái)定，詳情請(qǐng)致電我司 李國(guó)棟

玻璃鍍膜（電鍍）設(shè)備，蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)效率高、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

可加工的材料包括：PP、PC、PVC、ABS、PS、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。

本公司可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。

玻璃鍍膜（電鍍）設(shè)備，五金裝飾膜離子鍍膜機(jī)
電弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。
       真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發(fā)、電離鍍料，結(jié)合脈沖偏壓技術(shù)，提高沉積粒子能量和活性，增強(qiáng)膜層的各項(xiàng)性能。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進(jìn)行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。
       我公司著力改進(jìn)圓形電弧蒸發(fā)源，同時(shí)著力開發(fā)高性能矩形平面電弧蒸發(fā)源，均已裝配新機(jī)。 

玻璃鍍膜（電鍍）設(shè)備，連續(xù)線式磁控濺射鍍膜設(shè)備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質(zhì)量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設(shè)計(jì)，提供全套設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。
設(shè)備特點(diǎn)：
1.設(shè)備采用真空磁控濺射技術(shù)，孿生陰極，中頻濺射技術(shù)，并配以*的控制系統(tǒng) 。
2.生產(chǎn)過(guò)程全部自動(dòng)，連續(xù)進(jìn)行。被鍍工件加熱溫度zui高可達(dá)350℃，溫度分區(qū)控制可調(diào)。
3.真空室材料采用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁采用拋光后噴漆處理。
4.真空室之間采用獨(dú)立門閥隔開，我們?cè)O(shè)計(jì)的是插板閥，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。傳動(dòng)采用磁導(dǎo)向，保障傳動(dòng)的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)行速度可調(diào)節(jié)。
5.電氣控制系統(tǒng)：觸摸屏與PLC自動(dòng)控制，人機(jī)對(duì)話方式來(lái)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示、操作與控制。

玻璃鍍膜（電鍍）設(shè)備，陰極多弧離子鍍膜設(shè)備該系列設(shè)備采用矩形平面陰極電弧離子鍍膜技術(shù)和直流磁控濺射、中頻磁控濺射技術(shù)、脈沖偏壓技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜機(jī)上，這種模式已成為當(dāng)前五金類離子鍍膜主流技術(shù)。它既可以單獨(dú)用電弧或單獨(dú)用磁控濺射鍍膜，也可以利用兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在鍍膜過(guò)程不同階段發(fā)揮作用，比如在鍍膜初始利用電弧的高能粒子轟擊清洗和打底層，以增強(qiáng)膜/基結(jié)合力；隨后用中頻濺射鍍中間主層，以得到細(xì)膩光滑組織；再用直流濺射鍍頂層金等。該設(shè)備還可配離子源，可滿足多功能鍍膜的需要。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于工模具和中、衛(wèi)浴產(chǎn)品鍍膜。

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