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    TJ蒸鍍掩膜/非金屬掩膜/柔性電*高*密切割

    參   考   價: 24

    訂  貨  量: ≥1 件

    具體成交價以合同協(xié)議為準

    產(chǎn)品型號TJQG

    品       牌其他品牌

    廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

    所  在  地天津市

    聯(lián)系方式:孫經(jīng)理查看聯(lián)系方式

    更新時間:2024-10-31 13:31:09瀏覽次數(shù):303次

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    服務地區(qū) 全國,華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺,海外
    TJ蒸鍍掩膜/非金屬掩膜/柔性電*高*密切割

    華諾激光是一家集從事金屬精密加工生產(chǎn)及銷售制造型企業(yè)主營產(chǎn)品

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    光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。


     光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

    待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,

    掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版.



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