目錄:宇環(huán)數(shù)控機床股份有限公司>>復雜型面拋光機>>平面研磨拋光機>> YH2M8432C高精度立式雙面研磨機
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更新時間：2025-01-10 11:55:27瀏覽次數(shù)：3892評價
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| 布局形式 | 立式 | 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 加工材質(zhì) | 硬金屬,軟金屬,合金,鋼結(jié)構(gòu),塑料,纖維,板材,橡膠,玻璃,陶瓷,石材,磁性材料,其他 | 加工用途 | 外圓柱面,內(nèi)圓柱面,外錐面,內(nèi)錐面,軸肩端面,非球面,平面 |
| 界面語言 | 中文 | 類型 | 普通,數(shù)控,高精度,萬能,高速,仿形,其他 |
| 磨削類型 | 干濕兩用 | 數(shù)控系統(tǒng) | 無,可選配,三菱/MITSUBISHI,廣州數(shù)控/GSK,華興/WASHING,西門子/SIEMENS,海德漢/HEIDENHAIN,法格/FAGOR,發(fā)那科/FANUC,凱恩帝/KND,上海開通,華中/HNC,大隈/OKUMA,寶元/LNC,新代/SYNTEC,力士樂/Rexroth,其他數(shù)控系統(tǒng) |
| 銷售區(qū)域 | 全國,華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺,海外 | 自動化程度 | 自動 |
YH2M8432C高精度立式雙面研磨機主要用途：
該機床主要用于閥板、閥片、磨擦片、剛性密封圈、氣缸活塞環(huán)、油泵葉片等金屬零件的雙面研磨和拋光；也可用于硅、鍺、石英晶體、玻璃、陶瓷、藍寶石、砷化鎵、鈮酸鋰等非金屬硬脆材料薄片零件的雙面研磨和拋光。
YH2M8432C高精度立式雙面研磨機技術(shù)特點：
（1）該機為三電機控制，上拋光盤及太陽輪各由獨立減速電機驅(qū)動，下拋光盤及內(nèi)齒圈同步驅(qū)動，控制靈活，工藝范圍廣；
（2）內(nèi)齒圈通過凸輪機構(gòu)實現(xiàn)升降，操作方便，升降靈活可靠；
（3）柱銷型游星輪，耐磨損，使用壽命高；
（4）雙層推拉門式防護，維護方便，防護可靠；
（5）柔性加載系統(tǒng)，精密電氣比例閥控制，加壓穩(wěn)定可靠，壓力均勻精度高；
（6）上拋光盤設有安全自鎖裝置，與程序互鎖，確保操作安全性；
（7）觸摸屏人機操作界面，PLC控制，界面友好，信息量大；
（8）可選配恒溫冷卻系統(tǒng)，滿足精密拋光。
高精度,高效率平面拋光機,雙面研磨設備
項目 | 單位 | YH2M8432C |
上拋光盤尺寸（外徑×內(nèi)徑×厚度） | mm | Φ1070mm×Φ495mm×45mm |
下拋光盤尺寸（外徑×內(nèi)徑×厚度） | mm | Φ1070mm×Φ495mm×45mm |
zui大加工壓力 | Kgf | 300Kgf(拋光墊及毛刷拋光) |
加工件zui小厚度 | mm | 0.4mm（為直邊工件） |
加工件zui大尺寸 | mm | 290mm（矩形件對角線290mm） |
被加工件精度 | 在來料平行度0.005以內(nèi)時保證平行度0.005 | |
上研磨盤轉(zhuǎn)速 | rpm | 5-50轉(zhuǎn)/分（無級調(diào)速） |
下研磨盤轉(zhuǎn)速 | rpm | Lower plate speed:5-45rpm |
外形尺寸(約:長×寬×高) | 1600mm×1440mm×2700mm（2.3㎡） | |
外型尺寸（約：長×寬×高） | mm | 1600×1625×2150 |
整機重量 | kg | 3200Kg |
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