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當(dāng)前位置：勤友企業(yè)股份有限公司>>精密光學(xué)儀器>> NISSHO 光斷面深度測(cè)定機(jī)
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更新時(shí)間：2023-04-10 14:43:32瀏覽次數(shù)：393次
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NISSHO光斷面深／高度測(cè)定機(jī)其原理是利用45度的光線投射於待測(cè)物（Sample）的表面上，藉由偵測(cè)光線隨待測(cè)物表面高低起伏的變化，進(jìn)而量測(cè)深度、高度資訊。
產(chǎn)品特性：
使用光斷面原理，高、低段差同時(shí)顯示, 軸精度可達(dá)±1um
X.Y平臺(tái)移動(dòng)行程達(dá)410mm x 360mm
應(yīng)用範(fàn)圍：
晶圓（Wafer）溝槽深度、段差高度量測(cè)
液晶（LCD）框膠、點(diǎn)膠厚度量測(cè)
導(dǎo)線架蝕刻深度
電路板錫球、錫膏厚度
實(shí)體顯微鏡
DZ-160精密型雙眼顯微鏡
TZ-240影像式三眼顯微鏡
DZ-24O高倍率雙眼顯微鏡
特殊光學(xué)儀器
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