詳細(xì)介紹
- 軟體按照國(guó)際合金標(biāo)準(zhǔn)(UNI、ASTM、DIN) 規(guī)格
- 是一個(gè)光學(xué)多檢測(cè)儀,程式控制的火花發(fā)射適用於固體金屬樣品的微量分析儀。
- 可用於單矩陣和多矩陣應(yīng)用程序。
- 真空系統(tǒng):真空是由一個(gè)兩階段真空泵加上一個(gè)高效率渦輪分子泵,由數(shù)字真空控制裝置控制平均值。這種特殊的組合提高的紫外發(fā)光元件的檢測(cè)。基本模型僅包括標(biāo)準(zhǔn)真空泵。
- 溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng):光學(xué)室以及電子裝置被安裝於受控的溫度調(diào)系統(tǒng)內(nèi),溫度可平衡於 +/- 2°C,可維持儀器的穩(wěn)定性,不受溫度變化影響。
- 數(shù)位花火源:穩(wěn)定的數(shù)位花火源可以防止電源上的變化,HEPS技術(shù)(高能火花)高達(dá)600Hz的放電參數(shù)由密碼保護(hù)。
- 開放式火花座:開放火花支架可以使分析樣品高達(dá)25公斤以及不同尺寸和形狀。基本的火花立場(chǎng)是空氣冷卻
- 控制、採(cǎi)集電子系統(tǒng):電子系統(tǒng)整合通道和數(shù)據(jù)採(cǎi)集系統(tǒng)微處理器進(jìn)行快速的數(shù)據(jù)管理。