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    KINGYOUP 晶圓暫時(shí)貼合及雷射剝離設(shè)備

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    更新時(shí)間:2022-06-05 13:12:00瀏覽次數(shù):315

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    產(chǎn)品簡介

    矽晶圓雷射剝離系統(tǒng)WaferLaserDe-bondingEquipmentIBM高效率雷射剝離系統(tǒng),採355nm固態(tài)雷射(solid-staleLascr),使用冷切割、無熱效應(yīng),高頻快速掃瞄

    詳細(xì)介紹

    矽晶圓雷射剝離系統(tǒng) Wafer Laser De-bonding Equipment

    • IBM高效率雷射剝離系統(tǒng),採355nm固態(tài)雷射(solid-stale Lascr),使用冷切割、無熱效應(yīng),高頻快速掃瞄。
    • 雷射配合特殊的剝離塗層,特殊薄塗層、對雷射吸收度高,抗化性優(yōu)、高溫穩(wěn)定度佳(350℃)
    • 可搭配市面上多種貼合劑、膠材(可適於高溫或低溫)。
    • 維護(hù)成本低。
    • 低功率雷射,避免傷害晶圓。
    • 適於12"晶圓和方型(Panel Size)扇出型晶圓級封裝。

    應(yīng)用

    半導(dǎo)體業(yè):2.5D/3D IC、三五族、通訊晶片、扇出型晶圓級封裝
    (Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP) IGBT/Power Device , Glass/Organic/Si Interposer
    光電業(yè):Flexible OLED Dispaly, Thin Touch Sensor, Thin Glass Handling

    扇出型晶圓級封裝(Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP)製程


    矽晶圓清洗設(shè)備 Wafer Cleaning Equipment

    • 快速清洗殘膠。
    • 具有晶圓切割膠帶(Dicing Type)保護(hù)設(shè)計(jì),可避免化學(xué)藥劑傷害。
    • 快速平行處理,可以同時(shí)清潔多片晶圓。
    • 多模組設(shè)計(jì),解決現(xiàn)階段產(chǎn)出速率過慢的問題。
    • 化學(xué)藥劑可回收循環(huán)使用。
    • 節(jié)能設(shè)計(jì)。

    矽晶圓貼合系統(tǒng) Wafer Bonding Equipment

    • 適用8~12"晶圓,可快速的加熱及冷卻,並均勻進(jìn)行溫度控制。
    • 特殊設(shè)計(jì)的冷卻壓合控制,可控制晶圓翹曲(warpage)。
    • 多個(gè)貼合模組的安排,可以同時(shí)處理多片晶圓,產(chǎn)出速率更快。
    • 可適用高溫製程及低溫製程。
    • 溫度、壓力數(shù)據(jù)即時(shí)監(jiān)控,以及閉迴路壓力補(bǔ)償,能掌握及控制調(diào)整即時(shí)的製程變化。

    應(yīng)用
    2.5D/3D IC、背照式感光元件、三五族、通訊晶片、S01晶圓相關(guān)、微機(jī)電系統(tǒng)、扇出型晶圓級封裝 (Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP)

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