詳細(xì)介紹
半導(dǎo)體封裝時(shí),步需將晶圓進(jìn)行背面減薄加工,減薄厚的晶圓再進(jìn)行切割及灌膠等作業(yè)。減薄時(shí)鑽石砂輪密需保證在粗精磨時(shí)保持穩(wěn)定的研磨速率和表面加工質(zhì)量,以保證晶圓厚度一致性,從而確保高的封裝良率。
用途:硅晶圓和半導(dǎo)體化合物晶圓的背面減薄加工。
特點(diǎn):
- 獨(dú)特的結(jié)合劑設(shè)計(jì)保證及製作工藝穩(wěn)定的切削速度。
- 良好的自銳性降低研磨阻力,降低破片風(fēng)險(xiǎn)。
- 精確的鑽石分級(jí)和生產(chǎn)控制嚴(yán)格的保證減薄後晶圓的表面質(zhì)量的穩(wěn)定性。
- 通過(guò)當(dāng)?shù)鼗a(chǎn),我們可以提供高性價(jià)比的產(chǎn)品。
粒度 D(mm) W(mm) X(mm) H(mm) #325 (D54/80) | #8000 (D2/4) ?200 | ?400 2~5 5 155 158 190 235
亦可依據(jù)客人提供資料、圖面等資訊進(jìn)行客製。