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    更新時(shí)間:2022-04-07 10:46:46瀏覽次數(shù):340

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    半導(dǎo)體封裝時(shí),步需將晶圓進(jìn)行背面減薄加工,減薄厚的晶圓再進(jìn)行切割及灌膠等作業(yè)。減薄時(shí)鑽石砂輪密需保證在粗精磨時(shí)保持穩(wěn)定的研磨速率和表面加工質(zhì)量,以保證晶圓厚度一致性,從而確保高的封裝良率。

     

    用途:硅晶圓和半導(dǎo)體化合物晶圓的背面減薄加工。

     

    特點(diǎn):

    1. 獨(dú)特的結(jié)合劑設(shè)計(jì)保證及製作工藝穩(wěn)定的切削速度。
    2. 良好的自銳性降低研磨阻力,降低破片風(fēng)險(xiǎn)。
    3. 精確的鑽石分級(jí)和生產(chǎn)控制嚴(yán)格的保證減薄後晶圓的表面質(zhì)量的穩(wěn)定性。
    4. 通過(guò)當(dāng)?shù)鼗a(chǎn),我們可以提供高性價(jià)比的產(chǎn)品。


    粒度

    D(mm)

    W(mm)

    X(mm)

    H(mm)

    #325

    (D54/80)

    |

    #8000

    (D2/4)

    ?200

    |

    ?400

    2~5

    5

    155

    158

    190

    235

     

    亦可依據(jù)客人提供資料、圖面等資訊進(jìn)行客製。




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