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    德國蔡司ZEISS場發(fā)射掃描電鏡SIGMA 300

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    更新時(shí)間:2021-08-13 14:33:31瀏覽次數(shù):3091

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    簡介:

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    詳細(xì)描述:
    【品牌故事】 
    世界光學(xué)品牌,可見光及電子光學(xué)的----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋),積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn),ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè):
    臺靜電式透射電鏡 (1949) 
    臺商業(yè)化掃描電鏡 (1965) 
    臺數(shù)字化掃描電鏡(1985) 
    臺場發(fā)射掃描電鏡(1990) 
    臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992) 
    臺具有Koehler照明的 200kV 場發(fā)射透射電鏡(2003) 
    臺具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)
    CARL ZEISS以其前瞻性的設(shè)計(jì)融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動(dòng)的地位。自成立至今,一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有電鏡制造核心*的專有技術(shù),隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到廣大用戶的信賴與認(rèn)可。作為電鏡標(biāo)準(zhǔn)的CARL ZEISS將一路電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。
     
    【核心技術(shù)】
    蔡司公司推出Sigma300場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),將低電壓成像技術(shù)發(fā)揮到了,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合,多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma自動(dòng)的四步工作流程大大節(jié)省了設(shè)置與分析操作的時(shí)間,提高效率。
     
    【技術(shù)參數(shù)】
    分辨率:1.0nm@30kV STEM 
                    1.0nm @15 kV  
                    1.8nm @1kV
    放大倍數(shù):10-1,000,000×
    加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實(shí)現(xiàn))
    探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h
    低真空范圍: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
    樣品室: 365 mm(φ),275mm(h)
    樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動(dòng)   
                     X=125mm
                     Y=125 mm
                     Z=50 mm
                     T=-10º-90º
                     R=360º 連續(xù)
    系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制
    存儲分辨率:32k x 24k pixels
     
    【產(chǎn)品應(yīng)用】       
    掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分 析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶 粒取向測量。
     


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