• 曝光制程的紫外線波長
  在紫外線波長中，USHIO的超高壓UV燈仍可有效運用3線（436nm?405nm?365nm)波長,是長效型、且具有穩(wěn)定放射照度的高亮度光源。
• 發(fā)揮光學(xué)系性能的點狀光源
  弧形大小極接近點狀光源，易于集中與擴散光學(xué)系統(tǒng)上的光，因此可以得到均勻的照度分布。
• 配合半導(dǎo)體、液晶?彩色濾光片?PDP以及印刷基板用線路成形等各種用途的燈輸出
  因應(yīng)回路與類型燒付照度需求的提高、小型（100w級）～超大型（35kw級）為止、適用各尺寸的燈具。
• 發(fā)揮現(xiàn)有設(shè)備性能的高照度
  因應(yīng)現(xiàn)有設(shè)備Throughput提高的需求、即使僅使用高照度燈、亦可望確實提高產(chǎn)能。
  ※部分設(shè)備商產(chǎn)品則必須實施設(shè)備改造。
• 對應(yīng)需求波長的燈具開發(fā)
  配合顧客新設(shè)備的開發(fā)，開發(fā)出的燈具。詳情請洽詢

紫外線壽命特性

主要數(shù)據(jù)資料
分光分布（超高壓UV燈）

分光分布（Deep UV燈）

• 半導(dǎo)體回路形成用光源
• 液晶回路形成用光源
• 彩色濾光片回路形成用光源
• 電漿顯示器回路形成用光源
• 印刷電路板回路形成用光源
• MEMS回路形成用光源
• 檢查用光源
  其他新的曝光用途等