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詳細介紹
產(chǎn)品參數(shù)：
| 型號 | TS-PR08等離子去膠機 |
| 適用尺寸 | 8寸及以下晶圓（可定制） |
| 反應(yīng)氣體 | 3路，（氧氣、氬氣、氮氣等非腐蝕性氣體） |
| 真空測定系統(tǒng) | 皮拉尼真空硅管 |
| 工作真空度 | 30Pa以內(nèi) |
| 氣體流量控制 | 0-500mL/min MFC氣體質(zhì)量流量計精確控制流量 |
| 等離子電源 | 13.56MHz/1000W連續(xù)調(diào)節(jié) |
| 電極固定方式 | 水冷固定電極 |
| 有效處理尺寸 | φ210(mm) |
| 電極尺寸 | Φ230(mm) |
| 設(shè)備外形尺寸 | W635×D665×H1250(mm) 不含三色燈高度 |
| 水冷機 | 1P |
| 電源 | AC220V,50/60Hz |
產(chǎn)品介紹：
低成本、高性能、實驗性等離子去膠機，手動裝載晶圓片，應(yīng)用于單片晶圓光刻膠灰化、殘膠去除及表面清洗工藝，適用于大學(xué)、硏究院所、企業(yè)硏發(fā)機構(gòu)及小批量生產(chǎn)廠商。
?處理方式：RIE模式
?樣片數(shù)量及尺寸：單片8英寸以下
?刻蝕材料：Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Pt、聚酰亞胺等各種材料的蝕刻
?刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)
?刻蝕不均勻性：±3%-±6%
?刻蝕速率：0.1-1um/min （視具體材料與工藝）
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