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詳細(xì)介紹
納米氧化鈰研拋盤
納米氧化鈰研拋盤是以氧化鈰材料為主，另由數(shù)種復(fù)合材料構(gòu)成的，專用于光學(xué)及高檔手機(jī)玻璃研磨拋光。可替代傳統(tǒng)氧化鈰拋光布及瀝青拋光盤，其特點(diǎn)：不易變形.切削力佳.易修正平面度.壽命長(zhǎng).是常規(guī)氧化鈰皮3-4倍的耐用度.標(biāo)準(zhǔn)厚度5-6MM，具有研磨和拋光的雙重功效，在射燈下檢測(cè)無任何劃傷，直徑100MM內(nèi)平面度可達(dá)到一個(gè)光圈內(nèi)，粗糙度0.2納米左右，使用時(shí)間以12小時(shí)/天為計(jì)算，預(yù)計(jì)可以用2-3個(gè)月。是國(guó)內(nèi)一家針對(duì)光學(xué)行業(yè)的工藝技術(shù)！
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