設(shè)備組成：

功能和特點：

設(shè)備說明：

研磨拋光設(shè)備亮點與傳統(tǒng)設(shè)備對比（例：聚晶金剛石表面拋光處理）：

傳統(tǒng)拋光方法及設(shè)備存在問題

NANO-MAX拋光設(shè)備優(yōu)

(1) 傳統(tǒng)拋光設(shè)備的夾具（及其被夾持的工件）旋轉(zhuǎn)中心與磨輪端面無相對運動。初始接觸點（吻合度差）在局部相對集中，使得本應(yīng)表面拋光變成“去量拋光"，由于聚晶金剛石硬、拋光使用的磨輪切削能力差，接觸點（或面）向周圍擴展相當(dāng)緩慢，造成拋光時間超長，加工效率下 降。

(1) 拋光過程是磨輪與被拋光表面相互磨耗過程，NANO-MAX拋光機修面裝置*的夾具滑輪設(shè)置，使工件位移的同時，將磨輪端面高點修平，這不僅消除了被拋光表面可能出現(xiàn)的環(huán)形折光環(huán)，而且降低了磨輪端面平整度修整難度。

(2) 由于拋光過程中，被拋光表面中部始終不離開磨輪端面，中部受摩擦熱大于周邊，且散熱條件差，對于大面積、厚度薄的PCD制品，局部受熱導(dǎo)致工件變形加劇。

(2) 被拋光表面中部和邊緣與磨輪端面接觸幾率得到均衡，使工件各處受熱均勻；再者，被拋光表面的大部分都有移出磨輪端面的時候，改善工件的散熱條件，減小工件拋光過程產(chǎn)生的熱變形。

(3) 由于工件旋轉(zhuǎn)中心與磨輪端面接觸線固定，即使被拋光表面上各處均與磨輪接觸（*吻合），當(dāng)工件被拋光表面寬度（長度或直徑）大于磨輪環(huán)寬，各處的接觸幾率不同，工件外部的接觸幾率明顯少于中部，使得被拋光表面易出現(xiàn)明暗不同的折光環(huán)，達不到質(zhì)量要求。

(3) 縮短表面變形狀態(tài)不同的工件同時拋光所需的時間差異。由于被拋光表面自適應(yīng)與磨輪端面接觸吻合，無需用修整磨輪端面的方法來適應(yīng)被拋光表面，加之工件散熱條件的改善，使得同一臺拋光設(shè)備（用同一個磨輪）同時拋光兩片大面積PCD制品得以實現(xiàn)。

影響研磨效果因素，操作注意事項：

1.混合液劑的均勻分布

9.操作溫度性

2.工件受壓力

10.磨盤平整度以及測量方法

3.磨盤的速度

11.潤滑油要求及潤滑油的均勻分布

4.磨盤的材質(zhì)與特性

12.磨盤跳動周期速度

5.磨盤表面紋理與形狀

13.對工件施加的振動力

6.車間條件

14.磨盤的裝備與調(diào)節(jié)

7.磨料的材質(zhì)及粒度

15.調(diào)整輪的合理使用

8.載體的類型

16.研磨材料與載體配比

17.加工過程中廢渣廢屑處理