等離子拋光原理：

    等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。

    這種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應,分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉連結(jié)表面化學物質(zhì)。拋光后產(chǎn)品特性：粗糙度降低、光潔度提高、精密度提高、堅硬耐用，缺口敏感性降低、變得光滑整齊，磨擦系數(shù)下降、磨損減少。

    適用材質(zhì)：不銹鋼、鈦、鋁、銅、銀、鋅和合金類等所有導電材質(zhì)。

等離子拋光應用范圍：

等離子(電漿)拋光技術解決鈦/鋁合金外殼邊角及孔內(nèi)毛刺，處理后的表面平整及加上氧化層，加強殼的硬設。

等離子拋光設備特點：

1.全自動控制，操作容易 : 普通人員培訓后可于1~2天正常操作；

2.安全穩(wěn)定，維護簡單 : 設保護感應，防止意外發(fā)生，設計人性化，方便維修檢查；

3.提升生產(chǎn)速度 : 比傳統(tǒng)工藝更快,更佳之效果并使產(chǎn)能有所提升。