設(shè)備用途：

　　該機主要適用于超高精密零部件的雙面研磨拋光，光學(xué)晶體材料、硅片、砷化鎵片、刀片、金屬件、石英及其他硬脆材料等高平面度、高平行度要求的雙面高精度研磨拋光。

　　設(shè)備原理：

　　1、本系列研磨機為超高精密研磨設(shè)備，上、下研磨盤作相反方向轉(zhuǎn)動，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運動。磨削阻力小不損傷工件，而且兩面均勻磨削生產(chǎn)效率高。

　　2、本系列研磨機修整機構(gòu)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運動,金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進(jìn)行平面修整。

　　設(shè)備特點：

　　1、本系列研磨機的上、下研磨盤可進(jìn)行自動修盤。

　　2、采用四個電機同步驅(qū)動，變速范圍更廣，動動精度更高，響應(yīng)速度更快，能適應(yīng)不同研磨材料用研磨工藝的要求，實現(xiàn)了軟啟動、軟停止，調(diào)速穩(wěn)定，沖擊小。

　　3、控制系統(tǒng)中采用CNC、彩色終端等*技術(shù)，系統(tǒng)的響應(yīng)速度更快、更精確，并具有遠(yuǎn)程監(jiān)控，遠(yuǎn)程維護功能。

　　4、本系列研磨機有光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm，平行度0.002mm、平面度0.001mm范圍內(nèi)。

　　設(shè)備規(guī)格：