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當(dāng)前位置:北京國(guó)瑞升科技股份有限公司>>研磨液>> CMP拋光液
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更新時(shí)間:2021-04-09 09:47:16瀏覽次數(shù):578次
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GRISH CMP拋光液
GRISH CMP拋光液是以硅溶膠為原料,針對(duì)不同研磨材料的特性進(jìn)行*配方設(shè)計(jì),保證拋光過(guò)程中PH值基本保持不變,從而保證拋光速率的穩(wěn)定及節(jié)約拋光時(shí)間。
產(chǎn)品規(guī)格:
項(xiàng)目 | SO-80-PF | SO-100-PF | 測(cè)試方法 |
粒度(nm) | 70-90 | 90-110 | 激光粒度儀 |
顆粒形貌 | 球形 | 球形 | SEM /TEM |
pH | 10.5±0.5 | 10.5±0.5 | pH計(jì) |
粘度(cps) | <10 | 粘度計(jì) | |
包裝規(guī)格 | 500ml、 25Kg、 200Kg |
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 粒徑均一(粒徑分布窄,形貌呈正球狀);
2. 拋光速率快(特殊配方,PH值穩(wěn)定不變);
3. 高平坦化(表面質(zhì)量Ra < 0.2nm, TTV < 3 u);;
4. 循環(huán)次數(shù)較多;
5. 可低溫拋光 (35℃以下)。
應(yīng)用范圍:
配合國(guó)瑞升拋光墊產(chǎn)品,可廣泛用于多種材料納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光。如,藍(lán)寶石材料、硅片、不銹鋼、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工。
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