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當前位置：沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空泵組>> SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉靶頭）
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌 沈陽科晶/KEJING
廠商性質生產(chǎn)商
所 在 地
聯(lián)系方式：張先生查看聯(lián)系方式
更新時間：2021-03-15 12:45:22瀏覽次數(shù)：288次
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產(chǎn)品簡介：SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉靶頭）適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。
產(chǎn)品型號 | SKCC-GZB-X（高真空磁控濺射公、自旋轉靶頭） |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1寸，SKCC-GZB-1 2寸，SKCC-GZB-2 3寸，SKCC-GZB-3 4寸，SKCC-GZB-4 注：其它尺寸可以訂制 |
主要特點 | 1、轉靶帶擋板（可實現(xiàn)每次露出一個工作的靶，避免交叉污染）； 2、采用電磁場的有元計算法來設計永磁體，以得到較高的磁場強度和均勻分布； 3、轉靶轉速5~60轉/分可調； 4、標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配； 5、安裝采用標準真空法蘭（CF金屬密封或Dg膠圈密封可選）； 6、靶材更換較為簡單，無需調整濺射頭的高度。 |
配套電源 | 1、直流DC；2、射頻RF |
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