產(chǎn)品用途：主要適用于單晶硅片、石英芯片、光學(xué)玻璃、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
1、 采用相適應(yīng)的配方，達(dá)到研磨工件不同的技術(shù)要求。(材料灰口鑄鐵、球墨鑄鐵)
2、 按照研磨的不同要求，設(shè)計(jì)合理的加工工藝(槽距、槽寬、槽深)。速比相結(jié)合，大限度的提高研磨質(zhì)量的使用效率。
3、 為了研磨高精度的質(zhì)量要求，專門設(shè)計(jì)量具來控制研磨盤的平行度、平面度，達(dá)到研磨工件的需要，降低修盤時(shí)間，提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
4、 按照研磨的技術(shù)質(zhì)量要求，設(shè)計(jì)了科學(xué)的熱處理工藝。改善分子結(jié)構(gòu)，從而使研磨盤穩(wěn)定性好，在使用過程中不變形，達(dá)到使用生產(chǎn)過程中產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，提高工效和使用壽命。
適用設(shè)備：本產(chǎn)品為研磨設(shè)備配套生產(chǎn)，也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備，詳情請(qǐng)咨詢客服人員。
直徑：380mm——610mm——810mm——910mm——1500mm
孔徑：200mm——500mm
基體厚度：45mm——100mm
粒度：50目——3000目
CBN工作層厚度：5mm——15mm
研磨盤精度：
平行度≤0.02mm
粗糙度0.1μm——1.2μm
平面度0.001mm——0.004mm，平行度≤0.002mm，等高≤0.002mm
相關(guān)研磨盤：鎢鋼研磨盤、氧化鋁研磨盤、氧化鈰研磨盤、合成鋁盤、鑄鐵盤、合成鐵盤、合成銅盤、合成錫盤等各類研磨盤，來涵洽談交流:
備注：研磨盤的目數(shù)，代表用于制作研磨盤顆粒(磨粒粒徑對(duì)藍(lán)寶石研磨機(jī)研磨性能的影響因素)大小，目數(shù)數(shù)字以顆粒直徑來表達(dá)。就代表研磨盤的研磨力度。目數(shù)與研磨力度成反比，目數(shù)越大，研磨盤力度更輕，目數(shù)越小，研磨盤力度越重。平面研磨機(jī)在確定研磨工藝的時(shí)候，研磨盤目數(shù)是一個(gè)首要的參數(shù)。目數(shù)過大或過小的研磨盤，對(duì)于工件的研磨都不合適，無法加工到理想的表面精度。