§ 產(chǎn)品簡介：

nanoCVD-WPG型大尺寸石墨烯CVD系統(tǒng)是英國MOORFIELD公司與英國曼徹斯特大學“諾貝爾獎"石墨烯團隊共同開發(fā)的一款專門大尺寸生長高質(zhì)量石墨烯的納米CVD系統(tǒng)，大樣品尺寸可達4寸，該系統(tǒng)采用的“冷壁技術(shù)"及“等離子軟刻蝕技術(shù)"生長石墨烯，具有生長速度快，石墨烯質(zhì)量高，耗量少，無污染的優(yōu)點，是制備大尺寸高質(zhì)量二維材料石墨烯用戶的理想選擇。

§ 產(chǎn)品特性：

? 采用全自動“冷壁"技術(shù)與*的加熱臺設(shè)計實現(xiàn)高效加熱和低反應(yīng)材料消耗，運行費用低，石墨烯質(zhì)量高。

?壓力：＜5×10^-7mbar

? 裝樣簡單

? 樣片尺寸：3寸或4寸

? 等離子體源：150W/13.56MHz RF源

? 可在冷壁腔體中加等離子電極

? 加熱單元：低熱載，高加熱率，高溫度1100℃，分辨率為1℃，熱電偶溫度實時監(jiān)測溫度；，

? 三路氣體配帶流量控制，標準為Ar，H₂與CH₄；

? 內(nèi)置壓縮氣體風扇高效冷卻散熱；

? 生產(chǎn)時間短：一次完整生長流程時間小于30分鐘；

? 觸摸式液晶觸摸屏界面可自設(shè)和存儲多達30個生長流程，生長條件精確控制，可重復生成制備石墨烯；

? 聯(lián)機數(shù)據(jù)采集，生長流程全自動控制；

? 系統(tǒng)維護便捷方便，壓力、氣體流量和溫度參數(shù)連鎖確保使用安全。

§ 生長體系：

? 基底：Cu, Ni, etc. (films or foils)

? 氣體：H₂, Ar, N₂, etc.

? 碳源原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.

§ 應(yīng)用：

? Graphene & 2D materials

? Electrodes for photovoltaics

? Touchscreen displays

? High-performance electronics

? Biological, chemical and mechanical sensors

? Electrical energy storage