詳細(xì)介紹
產(chǎn)品描述
CMI95M是一款為測試銅箔厚度設(shè)計(jì)的電池供電的手持式測厚儀,它能夠在一秒鐘之內(nèi)測量印刷電路板上的銅箔厚度,范圍從1/8到4.0盎司/平方英尺(5-140微米)。Measure copper foil thickness in less than a second CMI95M由工廠調(diào)校,不需要任何標(biāo)準(zhǔn)片。它使用方便,只需將產(chǎn)品所有的軟探針放到銅箔的表面就可以看到關(guān)于銅箔厚度的指示。
儀器特點(diǎn):
配置包括:CMI 95M、集成探頭、一個(gè)9V電池、保護(hù)套/皮帶夾、快速入門指南、1年保修
對于金屬鍍層測厚的解決方案、相關(guān)配件及耗材,牛津儀器提供范圍的優(yōu)質(zhì)售前售后服務(wù)與技術(shù)支持。
Microresistance Microresistance Microresistance CMI95M CMI165 CMI511 CMI563 CMI760 Technique Microresistance Eddy current Copper Foil ? ? X ? ? Copper Laminate ? ? X ? ? Copper - Surface X ? X ? ? Copper - Fine Line X ? X ? ? Copper Thru-hole X X ? X Optional Temperature Compensation X ? ? X ? (ETP Probe) Replacement Probe Tip N/A ? X ? ? (SRP-4 Probe) Unit Selection oz or μm mil or μm mil or μm mil or μm mil or μm Replacement Probe Tip ±1.0 mil + 5% ±1.0 mil + 5% ±1.0 mil + 5% ±1.0 mil + 5% ±1.0 mil + 5% Unit Selection 0.5 mil 0.01 mil 0.01 mil 0.01 mil 0.01 mil Thickness Range 8 indicator lights:
1/8-4 oz
5-140 μmElectroless Cu:
0.01-0.5 mil
0.25-12.7 μm
Electroplated Cu
0.1-10 mil
2-254 μm0.08-4.0 mil
2-102 umElectroless Cu:
0.01-0.5 mil
0.25-12.7 μm
Electroplated Cu
0.1-6 mil
3-152 μmSurface Cu:
0.01-10 mil
0.25-254 μm
Thru-hole Cu:
0.05-4 mil
1-102 μm