環(huán)境掃描電鏡(ESEM)，用于研究包括含水樣品在內的各種樣品。

Thermo Scientific Quattro ESEM將SEM成像與SEM分析的綜合性能與的環(huán)境模式 (ESEM) 相結合，可在自然狀態(tài)下研究樣品。Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡是各種學術、工業(yè)和政府實驗室的理想選擇，這些實驗室希望不僅能為不同經驗水平和學科的用戶提供具有多功能性和易用性的測試平臺，而且能擴展原位實驗功能。Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡配備場發(fā)射電子槍 (FEG)，可實現(xiàn)高分辨觀察，同時其三種真空模式（高真空、低真空及 ESEM）可靈活適應各種樣品，包括易放氣或在高真空環(huán)境下不穩(wěn)定的樣品。

強大的分析和擴展能力

得益于樣品倉尺寸，Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡可適配各種附件。分析能力包括可外接對稱 180 度的雙能量色散 X 射線光譜（ EDS ），可與EDS幾何共面的背散射電子衍射 (EBSD) ，以及波長色散 X 射線光譜 (WDS)。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡支持可選的環(huán)境真空加熱臺、高真空加熱臺、Thermo Scientific AutoScript 4 軟件（基于 Python 的腳本工具）以及新款 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測器。RGB CL 檢測器可生成彩色圖像，顯示傳統(tǒng)電子或 X 射線成像技術中無法看到的樣品特性。環(huán)境真空加熱臺適用于易放氣樣品或一定氣氛下的樣品加熱試驗，高真空加熱臺可以在高真空模式下對樣品進行加熱觀察，且沒有多余氣氛的干擾。借助 AutoScript 4 軟件，用戶可對各種成像參數(shù)和載物臺移動進行編程，可實現(xiàn)Quattro在無人操作的情況下進行數(shù)據采集。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的應用包括：

納米表征

• 金屬和合金、斷裂、焊縫、拋光切片、磁性和超導電材料
• 陶瓷、復合材料、塑料
• 薄膜/涂層
• 地質切片、礦物
• 軟材料：聚合物、藥品、濾片、凝膠、組織、植物材料
• 顆粒、多孔材料、纖維

原位表征

• 結晶/相變
• 氧化、催化
• 材料生長
• 水合/脫水/潤濕/接觸角分析
• 拉伸（帶加熱或冷卻）

動態(tài)原位實驗

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的多功能性使其非常適用于材料科學領域的大部分主題。它對傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 成像/分析以及動態(tài)原位實驗都非常擅長。它可以幫助研究人員研究自然狀態(tài)下的各種樣品，以獲得關于結構和組分的準確的信息。

的環(huán)境模式

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的環(huán)掃功能可使科學家在各種條件下（例如濕/潮濕、熱或活性環(huán)境）研究材料、從而可以為建筑、汽車、包裝、涂層和能源等眾多學科開發(fā)新材料和產品。Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡具有研究化學反應（如氧化、腐蝕、蝕刻、晶體生長和催化）的能力，可顯著影響科學與環(huán)境。

Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡的主要特點

動態(tài)原位實驗

對自然狀態(tài)下的材料進行原位研究：具有環(huán)境模式的高分辨場發(fā)射掃描電鏡 (ESEM)。原位分析的溫度范圍為 -165°C 至 1400°C，搭配使用各種冷臺和熱臺。

樣品觀察

在各種操作模式下均可實現(xiàn) SE 和 BSE 同時成像。

靈活且準確

靈活且準確的優(yōu)中心樣品臺，傾斜范圍達 105°，可從各個角度觀察樣品。

大限度地減少樣品制備時間

低真空和ESEM環(huán)境掃描電鏡功能可對非導電和/或含水樣品進行無電荷/無脫水成像和分析。

優(yōu)異的分析能力

優(yōu)異的分析能力來自可以最多同時使用 3 個 EDS 檢測器的腔室，并具有對稱180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS幾何共面的EBSD接口。對非導電樣品的優(yōu)秀分析：在低真空條件下，Quattro ESEM高溫掃描電鏡的減小電子束散射技術可實現(xiàn)準確的 EDS 和 EBSD。

易于使用的軟件及創(chuàng)新性選項

直觀易用且?guī)в杏脩糁改虾统废δ艿能浖Ｊ褂酶俚氖髽它c擊，更快速地完成工作。新的創(chuàng)新選項，包括可伸縮 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測器、1100°C 高真空加熱載物臺和 AutoScript 4 軟件（基于 Python 的API腳本工具）。

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