集成電路作為集成電路產(chǎn)品的核心部件，其質(zhì)量的好壞直接決定到集成電路整機產(chǎn)品的性能和可靠性。在集成電路的制備過程中，表面附著的顆粒、有機物、金屬等污染物嚴重影響器件的性能。隨著集成電路板中單元圖案的日益小型化和集成度的提高，對器件性能、可靠性、產(chǎn)量和使用壽命的要求也越來越高。因此，在集成電路制造過程中的許多工藝，如硅氧化、光刻、外延、擴散和鉛蒸發(fā)等之前，為了獲得符合清潔度要求的硅片，要用物理或化學方法去除硅片表面的污染物及其自身的氧化物，但這也產(chǎn)生了大量的廢水。

　　集成電路板清洗過程中排出的廢水含有纖維物質(zhì)、鉻、鎳、鋅、酸堿等污染成分，如不進行有效處理或處理不當，將對環(huán)境造成嚴重污染。天然水體受酸、堿、重金屬污染后，水體的緩沖作用被破壞，使水質(zhì)惡化，抑制或阻止微生物活動，降低水的自凈能力，還會對農(nóng)作物造成危害，重金屬離子對健康有很大的危害。而且水中的重金屬離子不會被微生物降解，它們可以在生物體內(nèi)吸附、積累和富集，對人類、魚類、浮游生物都有非常大的危害，嚴重時可造成作物減產(chǎn)或牲畜死亡。

　　隨著我國“節(jié)能減排"政策的實施，在集成電路行業(yè)用水大戶的環(huán)評批復中明確提出，除要求廢水達標排放外，還明確要求廢水必須達到一定的回用率，實現(xiàn)循環(huán)經(jīng)濟。在現(xiàn)有技術中，生產(chǎn)企業(yè)主要是將上述工藝混合在同一個集成電路清洗廢水回用設備中進行處理，集成電路清洗廢水的成分復雜，現(xiàn)有設備對這種廢水的處理需要使用較多的藥劑進行反應，浪費了較多的藥劑，同時這種廢水設備的結(jié)構復雜，不利于操作人員進行維護。

　　萊特萊德的集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)工藝合理，運行持久穩(wěn)定，經(jīng)濟效益明顯，環(huán)境風險性能可控，整體布局高度集成，美觀大方。該系統(tǒng)采用Neterfo極限分離和MVR蒸發(fā)的組合，加上高效的軟化和脫硬系統(tǒng)，降低了膜系統(tǒng)結(jié)垢和污染的風險，保證了系統(tǒng)的穩(wěn)定運行。Neterfo極限分離系統(tǒng)簡單的模塊化設計使其運行更加靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)集成電路廢水的回用。集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)的不斷創(chuàng)新使我國對集成電路的需求不斷增加，集成電路廢水的有效回用符合我國目前的節(jié)水環(huán)保理念。