掩膜版制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設(shè)計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標準。我們的圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。

圓形掩膜板產(chǎn)品特點：
1、低開模費,可以按設(shè)計人員的設(shè)計要求進行掩膜圖形任意更改，成本低
2、能實現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實現(xiàn)品牌化生
3、*的精密度,可達+/-0.0075mm的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求
4、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本
5、沒有毛刺，壓點，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能
6、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求
7、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對各種圖案設(shè)計無限制
8、制造各類機械加工所無法完成的金屬部件

 如果客戶有自己的圓形掩膜版的樣品，可以只考慮做一片上面所示的單片掩膜版就行。如果沒有較好的固定器件的方案，建議采用我們的疊層設(shè)計法。