- 高均一性照射
由于基板問(wèn)題變化而產(chǎn)生的變色減少
省略了周邊四角的曝光 - Tack 時(shí)間短
利用光學(xué)Filter對(duì)光的控制技術(shù)
受損情況小
低溫處理 - Mask對(duì)位機(jī)能
能夠和Pattern進(jìn)行精度較高的對(duì)位
有效的曝光技術(shù)進(jìn)行展開(kāi)
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