光氧催化處理器

光氧催化處理器利用特制的高能光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
5.142利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。
5.143惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能C波光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
光氧催化處理器性能參數(shù)
1、處理風(fēng)量：40000 m3/h;
2、有機(jī)廢氣凈化效率：≥95%；
3、設(shè)備阻力：≤300Pa;
4、電源電壓：220V   50HZ
5、電功率：4000W
6、備噪聲：≤45Db
技術(shù)特點(diǎn)
   一、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭高可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．
   二、無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。，
   三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
   四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
   五、無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。
   六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

七、優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
八、環(huán)保高科技產(chǎn)品：采用上進(jìn)技術(shù)理念，通過(guò)專家及我公司工程技術(shù)人員*反復(fù)的試驗(yàn)，開(kāi)發(fā)研制出的，具有*自主研發(fā)的高科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，可*分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達(dá)到*的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可*達(dá)到無(wú)害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染，同時(shí)達(dá)到高效消毒殺菌的作用。

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