TJ方孔矩陣掩膜板蒸鍍掩膜版叉指電極掩膜高精密切割激光定制加工
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ,主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用,也適合于工廠批量生產(chǎn),掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā),熱蒸發(fā),磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中,用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池,光電探測器,場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品,具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后,才能正式報(bào)價(jià)。
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板,此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用,適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用,優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),制造的掩模板平整度高、精度高,利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移,適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實(shí)驗(yàn)室。
電極掩模板是一款精度在10微米以內(nèi)的金屬掩模板,該掩模板的特點(diǎn)是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等,集眾多優(yōu)點(diǎn)于一身,受到廣大院校和研究所好評。