石墨烯粉體制造設(shè)備分散機(jī)-太倉中新寶智能裝備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地	進(jìn)口	銷售區(qū)域	全國(guó),華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺(tái),海外

石墨烯粉體制造設(shè)備分散機(jī) 機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng)，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)。2004年，英國(guó)兩位科學(xué)使用透明膠帶對(duì)天然石墨進(jìn)行層層剝離取得石墨烯的方法，也歸為機(jī)械剝離法，這種方法一度被認(rèn)為生產(chǎn)效率低，無法工業(yè)化量產(chǎn)。雖然這種方法可以制備微米大小的石墨烯，但是其可控性較低，難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模合成。

詳細(xì)介紹

石墨烯粉體制造設(shè)備分散機(jī) 石墨烯高剪切分散機(jī) 石墨高剪切分散設(shè)備石墨烯高速分散設(shè)備石墨烯在線式分散設(shè)備

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石墨烯粉體的制造

石墨烯(Graphene)是一種由碳原子以sp²雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的二維碳納米材料。

石墨烯具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)特性，在材料學(xué)、微納加工、能源、生物醫(yī)學(xué)和藥物傳遞等方面具有重要的應(yīng)用前景，被認(rèn)為是一種未來革命性的材料。

石墨烯常見的粉體生產(chǎn)的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法，薄膜生產(chǎn)方法為化學(xué)氣相沉積法(CVD)。

氧化還原法

氧化還原法是通過使用硫、硝酸等化學(xué)試劑及*、雙氧水等氧化劑將天然石墨氧化，增大石墨層之間的間距，在石墨層與層之間插入氧化物，制得氧化石墨(Graphite Oxide)。然后將反應(yīng)物進(jìn)行水洗，并對(duì)洗凈后的固體進(jìn)行低溫干燥，制得氧化石墨粉體。通過物理剝離、高溫膨脹等方法對(duì)氧化石墨粉體進(jìn)行剝離，制得氧化石墨烯。后通過化學(xué)法將氧化石墨烯還原，得到石墨烯(RGO)。這種方法操作簡(jiǎn)單，產(chǎn)量高，但是產(chǎn)品質(zhì)量較低。氧化還原法使用硫、硝酸等強(qiáng)酸，存在較大的危險(xiǎn)性，又須使用大量的水進(jìn)行清洗，帶大較大的環(huán)境污染。

機(jī)械剝離法

機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng)，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)。2004年，英國(guó)兩位科學(xué)使用透明膠帶對(duì)天然石墨進(jìn)行層層剝離取得石墨烯的方法，也歸為機(jī)械剝離法，這種方法一度被認(rèn)為生產(chǎn)效率低，無法工業(yè)化量產(chǎn)。雖然這種方法可以制備微米大小的石墨烯，但是其可控性較低，難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模合成。

現(xiàn)在很多的公司都用機(jī)械剝離法制備石墨烯粉體，這樣的好處是

成本低機(jī)械剝離法相對(duì)氧化還原法制備石墨烯粉體的成本低，2.環(huán)保，現(xiàn)在各個(gè)地方都對(duì)環(huán)保查的特別嚴(yán)格，后殘料處理都是很大的問題。

我們公司的高剪切分散機(jī)就可以能夠制備石墨烯粉體，雖然不能夠制得單層石墨烯粉體但是gao可以制得三層石墨烯粉體，就光是三層石墨烯粉體在中國(guó)都有很大的市場(chǎng)。

我司KZSD2000分散機(jī)參數(shù)

型號(hào)	標(biāo)準(zhǔn)流量L/H	輸出轉(zhuǎn)速Rpm	標(biāo)準(zhǔn)線速度m/s	馬達(dá)功率KW	進(jìn)口尺寸	出口尺寸
KZSD2000/4	300-1，000	18，000	51	4	DN25	DN15
KZSD2000/5	1，000-1,500	13，500	51	11	DN40	DN32
KZSD2000/10	3，000	9，300	51	22	DN50	DN50
KZSD2000/20	8，000	3，600	51	37	DN80	DN65
KZSD2000/30	20，000	3，600	51	75	DN150	DN125
KZSD2000/50	40，000	2，500	51	160	DN200	DN150