一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述

飼料級*3粉研磨分散機(jī)，食品研磨分散機(jī)，藥品研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，在線式研磨分散機(jī)，分體式研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)

二、*3粉的介紹

此產(chǎn)品由醫(yī)藥級*₃衍生加工。
 活性成分：*₃
包合材料：β-環(huán)糊精

淺黃或白色具有特殊氣味的粉末。把*₃分散在植物油中,采用微膠囊化技術(shù)將*₃均勻地包埋在碳水化合物中，通過噴霧干燥法生產(chǎn)出的流動性良好的微膠囊粉末。

三、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)

XMD2000飼料級*3粉研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。

太倉希德研發(fā)的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料，是將SID膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來XM2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

四、研磨分散機(jī)的原理

XMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，XM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；XMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨頭表面涂料一層及其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強(qiáng)的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比研磨分散機(jī)GM2000的效果更加理想。

五、XMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

六、研磨分散機(jī)的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將*的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供***切割力，纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用*的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

七、研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

八、XMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表