設(shè)備簡介

在原來的普通磁力拋光機(jī)基礎(chǔ)上，增加2- 3個(gè)機(jī)組磁場左右移動(dòng)，大大改善了整個(gè)拋光的均勻度，產(chǎn)品在研磨桶內(nèi)無盲區(qū)，特別是磁盤中心及四周園位置。

此機(jī)優(yōu)點(diǎn)

1.拋小件因?yàn)闊o中心和周圍盲區(qū)，單次可大大增加加工重量，拋光出的產(chǎn)品均勻,效率更高。

2.拋大件均勻度高，包括亮度和沙面、去毛刺均勻度。(原因是大件太大不能自 由翻滾)

3.平移拋光機(jī)在原有的圓形基礎(chǔ)上，因?yàn)樽笥襾砘匾苿?dòng)，大大增加了磁場面積的長度，適合拋較長的產(chǎn)品。(較適合拋管類、塊狀的產(chǎn)品。如:筆記本電腦底殼)

技術(shù)參數(shù)