金華半導體清洗用水設(shè)備|芯片清洗超純水設(shè)備 

超純水,是一般工藝超純水運行流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透主機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 
（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 
（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)以上工藝各有各的優(yōu)勢，你可以根據(jù)你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學的發(fā)展，很多新的工藝已經(jīng)替代了舊的工藝。用反滲透法制取高純水已經(jīng)普及，也是zui為現(xiàn)今的工藝。
很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。