簡(jiǎn)介：
美國(guó)AEP Technology公司主要從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備, MEMS檢測(cè)設(shè)備, 光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的生產(chǎn)制造，是表面測(cè)量解決方案行業(yè)的*供應(yīng)者,專(zhuān)門(mén)致力于材料表面形貌測(cè)量與檢測(cè)。公司始終致力于微觀表面“三維"檢測(cè)技術(shù)和設(shè)備的研發(fā)及推廣，歷經(jīng)近十年努力，已為30多個(gè)國(guó)家提供NanoMap系列三維表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。
NanoMap-LS三維表面形貌/輪廓儀主要應(yīng)用在金屬材料、生物材料、聚合物材料

特點(diǎn)：
1.     全自動(dòng)軟件控制
2.     0.1到100 mg接觸力
3.     垂直分辨率可達(dá)0.1nm 。
4.     每次掃描zui少1 0 0點(diǎn)，zui多可達(dá)1 5 0 ,0 0 0數(shù)據(jù)點(diǎn)
5.     一體化彩色攝像機(jī)在掃描同時(shí)可直接觀察樣品
6.     簡(jiǎn)單一鍵操作與用戶(hù)友好的操作界面
 
應(yīng)用領(lǐng)域：
測(cè)量表面可以覆蓋多種材料表面：金屬材料、陶瓷材料、生物材料、聚合物材料等等，對(duì)于植物表面，生物材料，聚合物表面，光刻膠等“柔軟表面”也可測(cè)量無(wú)須擔(dān)心劃傷或破壞。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好。熱噪聲是同類(lèi)產(chǎn)品zui低的。
 
主要技術(shù)參數(shù)
垂直分辨率: 0.1nm
重復(fù)性: 0.54 nm(1Sigema @1um)
垂直范圍: 524um（1mm可選）
掃描范圍: 150mm x 150mm