詳細(xì)介紹
ITO( Indium Tin Oxides)(ITO膜激光蝕刻機(jī))--納米銦錫金屬氧化物,通常叫氧化銦錫。因其良好的導(dǎo)電性、透明性及防電子輻射性能,被噴涂在塑料、玻璃上,形成銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜。廣泛應(yīng)用手機(jī)、車(chē)載導(dǎo)航平板電腦,有特殊高傳輸要求的各類(lèi)電阻,電容觸摸屏和太陽(yáng)能行業(yè)等。我公司針對(duì)市場(chǎng)需求開(kāi)發(fā)出ITO激光蝕刻機(jī)系列產(chǎn)品,對(duì)表面導(dǎo)電膜層進(jìn)行激光蝕刻氣剝離,以滿足不同用戶的需求。 該產(chǎn)品采用*激光器,德國(guó)高精度數(shù)字振鏡及高精度數(shù)控工作臺(tái)。整機(jī)采用一體化設(shè)計(jì),配備一體式高精度激光器,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,性能穩(wěn)定,基本實(shí)現(xiàn)免維護(hù)。采用進(jìn)口運(yùn)動(dòng)控制軟件 ,整個(gè)操作過(guò)程采用電腦控制輸入、輸出、且操作簡(jiǎn)單方便。與目前市場(chǎng)使用的濕式酸堿蝕刻線設(shè)備相比,工藝非常簡(jiǎn)單,不需要純水,酸堿液,清洗等工藝,因此性能更穩(wěn)定,效率更高、性價(jià)比更優(yōu)。為觸摸屏行業(yè)提高穩(wěn)定、高效、環(huán)保、合格率高的干蝕刻工藝從而*取代傳統(tǒng)的濕蝕刻工藝。
樣品展示
技術(shù)特點(diǎn)
· ITO激光蝕刻機(jī)具有以下優(yōu)點(diǎn): 激光蝕刻機(jī)加工重復(fù)定位精度高,速度快;
· 加工邊緣整齊、光滑,而且*性*。
· 工藝簡(jiǎn)單,將傳統(tǒng)4道工序縮減到一道工序全自動(dòng)控制。非接觸加 工,一步蝕刻到位,產(chǎn)品的合格率*地提高,可實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。 無(wú)需使用任何化學(xué)溶劑,對(duì)無(wú)塵室環(huán)境無(wú)污染;
· 激光刻線及一次性投入,終身免維護(hù),品質(zhì)*性強(qiáng),大大降低 對(duì)傳統(tǒng)蝕刻技術(shù)員工的技術(shù)依賴. 激光刻線機(jī)性能穩(wěn)定維護(hù)量低,平均*使用時(shí)間可達(dá)5萬(wàn)小時(shí)以上,耗電低,
· 一個(gè)操作人員即可。化學(xué)蝕刻機(jī)耗電、水、化學(xué)腐蝕劑量大,需經(jīng)常維護(hù),人員工作量大;
· 激光刻線機(jī)可縮短工藝制程,減少不良項(xiàng)產(chǎn)生(蝕刻白點(diǎn)、水霧、片堿殘留、滾輪印)提高生產(chǎn)良率。
· 激光刻線機(jī)制程加工穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單(減少蝕刻不良:阻值高,阻值低,絕緣不良)和傳統(tǒng)的化學(xué)蝕刻相比,軟件編輯電路,因此做樣工藝簡(jiǎn)單,速度快,成本低;產(chǎn)品合格率高于95%。
· 激光刻線機(jī)解決了玻璃基材激光刻蝕的高效率、高質(zhì)量的技術(shù)和工藝問(wèn)題。
應(yīng)用領(lǐng)域
可用于電源、電子元器件、傳感器、厚膜和薄膜電路的電阻精密調(diào)節(jié).
產(chǎn)品參數(shù)
項(xiàng)目名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
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機(jī)器型號(hào) | CX-SK30 |
激光波長(zhǎng) | 355nm /1064nm |
激光器 | 定制激光器 |
zui大激光功率 | 3W/5W/8W|20W/30W |
工作方式 | 多頭拼接 |
工作范圍 | 500mm×500mm(標(biāo)配) |
zui大工作線速 | 3000mm/s |
zui小線寬 | 0.02mm |
RZ粗糙值 | ≤0.02mm |
重復(fù)精度 | ±0.01mm |
zui小聚焦光斑 | 0.02mm |
定位方式 | 自動(dòng) |
整機(jī)供電 | 2Kw/AC220V/50Hz |
冷卻方式 | 風(fēng)冷 |
整機(jī)尺寸(L×W×H) | 1100×1100×1900mm |