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環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備ECMC1000150
東莞市榮迅自動(dòng)化設(shè)備有限公司開發(fā)出的全自動(dòng)環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備ECMC1000150是根據(jù)電化學(xué)原理與電離子體反應(yīng)原理而研發(fā)的,專門解決不銹鋼、鈦材、鋁鎂合金、鋁制品、鈦合金及各種低碳導(dǎo)電材質(zhì)由沖壓造成的毛邊,處理工件表面及死角,能夠使霧面工件表面達(dá)到鏡面效果。
環(huán)保電離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝綜合了電漿拋光、電化學(xué)拋光及ECD電化學(xué)去毛刺原理,且配套了我司自主研發(fā)的高效節(jié)能型電源——僅在工件表面的分子層與電離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi),因此電離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。本公司進(jìn)一步研發(fā)出納米拋光液配方,在拋光液成本上進(jìn)一步降低,使拋光效果進(jìn)一步優(yōu)化。
此方法是將待拋光工件浸入加熱的中性鹽水溶液中,并對(duì)其施加正極性電壓,該電解液無公害且廉價(jià),所施加的電壓為200-400V,工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下,工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層,該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開,從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的電離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng),使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化,同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕,在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果,其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層zui薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí),其反射率出現(xiàn)zui高值。微觀不平處的氧化層zui薄,因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會(huì)產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度,這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果,使表面微觀凸起部位被削平,達(dá)到拋光效果。
與傳統(tǒng)拋光工藝相比,環(huán)保電離子電漿、環(huán)保電離子納米拋光工藝的優(yōu)勢(shì)主要表現(xiàn)在:
1、為客戶減輕環(huán)保壓力。本公司所使用的拋光液非常環(huán)保,在其廢液可以直接排放而不會(huì)造成污染,也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費(fèi)用低,有利于推廣,并且對(duì)加工環(huán)境無污染,適應(yīng)綠色制造的發(fā)展方向。
2、降低客戶生產(chǎn)成本。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保電離子電漿、電離子納米拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。
3、為客戶提高生產(chǎn)效率。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保電離子電漿、環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備通過藥劑可在十幾秒到幾分鐘內(nèi)達(dá)到電鍍鏡面效果,大大提高了生產(chǎn)效率。
4、拋光效果好,提升客戶產(chǎn)品品質(zhì)。利用半自動(dòng)、環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì),而且可以對(duì)一些人工不可能拋光的精密工件加以拋光。其精度控制*,尺寸影響小,通常可控制在0.1微米/分鐘,拋光均勻,使整個(gè)工件表面和死角部位都可以達(dá)到*的鏡面效果。增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能,拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,有效防止氧化。高純度,有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在:粗糙度降低,光潔度、精密度提高、堅(jiān)硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。拋光方法特性比較(見附表)
5、我司自主研發(fā)的高效節(jié)能型電源。
環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備ECMC1000150