J.A. Woollam獲得的 RCE 技術(shù)將旋轉(zhuǎn)補償器橢偏儀與高速 CCD 檢測相結(jié)合,可在幾分之一秒內(nèi)以多種配置收集整個光譜(數(shù)百個波長)。 M-2000 是款真正擅長從in-situ監(jiān)測和鍍膜過程控製到大面積均勻性量測和表徵薄膜折射率的橢偏儀。沒有其他橢偏儀技術(shù)能夠更快地獲得全光譜橢偏數(shù)據(jù)量測。除此以外,M-2000橢偏儀也具有高度的擴充性,客戶可自行選擇所需的波長範圍,電控平臺大小
多角度寬光譜橢偏儀M-2000 特點
- 先進的橢偏儀技術(shù):旋轉(zhuǎn)補償(RCE)技術(shù)的使用,使M-2000獲得了超高的準確性和重複性。
- 快速光譜探測:RCE設(shè)計結(jié)合先進的CCD探測技術(shù),使得所有波長點上的數(shù)據(jù)可以同時準確測量。
- 超寬光譜範圍:同時測量深紫外到近紅外的超過700個數(shù)據(jù)點。
- 靈活的系統(tǒng)組合:模組化的設(shè)計使M2000橢偏儀即可以安裝到任何在鍍膜腔體上(in-situ),進行即時量測,也可以選擇桌上型電控平臺基座。
- 準確:先進的設(shè)計保證各種樣品都能獲得準確的橢偏測量。
- 可透過robot整合為線上全自動化橢偏儀
- VCSEL量測
- 氮氧化物薄膜量測
- ITO量測
- OLED有機材料薄膜量測
- Micro LED鍍層量測